ซีรี่ส์ RTAS เป็นเครื่องแหล่งที่มาของการสะสมหลายตัวเข้ากับกราไฟท์ทั่วไปสีดำสีฟ้าทองแดงและสีบรอนซ์บนชิ้นส่วนโลหะวัตถุสแตนเลสใช้โดยเฉพาะสำหรับชิ้นส่วนหรูหราระดับไฮเอนด์
มาตรฐาน ใบสมัคร
เครื่องประดับสายนาฬิกาและตัวเรือนกีฬาสแตนเลสเครื่องเขียน
อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์: โทรศัพท์มือถือแล็ปท็อปกล้องโดรน
เครื่อง RTAS ที่ติดตั้งส่วนโค้งวงกลมและแหล่งที่มาของการสะสมของกระบอกสูบการผสม DC sputtering หลายแบบ, MF sputtering, การระเหยอาร์กและแหล่งไอออนเป็นต้นทั้งหมดนี้มีอยู่ในเครื่องเดียวเพื่อความยืดหยุ่นสูงในการกำหนดค่าเพื่อตอบสนองการใช้งานที่หลากหลายโดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับการเคลือบเพื่อความสวยงามชิ้นส่วนขนาดเล็ก: สีดำ, ทองแดง, ทองเหลืองและโครเมี่ยม
MF Sputtering คืออะไร?
เมื่อเทียบกับการสปัตเตอร์ DC และ RF การสปัตเตอร์ความถี่กลางได้กลายเป็นเทคนิคการสปัตเตอร์ฟิล์มบางหลักสำหรับการผลิตการเคลือบจำนวนมากโดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับการสะสมฟิล์มของการเคลือบฟิล์มอิเล็กทริกและไม่นำไฟฟ้าบนพื้นผิวเช่นการเคลือบด้วยแสงแผงเซลล์แสงอาทิตย์หลายชั้น ฟิล์มวัสดุคอมโพสิต ฯลฯ
กำลังแทนที่ RF sputtering เนื่องจากทำงานด้วย kHz แทนที่จะเป็น MHz เพื่ออัตราการสะสมที่เร็วขึ้นมากและยังสามารถหลีกเลี่ยงการเป็นพิษของเป้าหมายในระหว่างการสะสมฟิล์มบางแบบผสมเช่น DC
เป้าหมายการสปัตเตอร์ MF มีสองชุดเสมอแคโทดสองตัวใช้กับกระแสไฟฟ้ากระแสสลับที่สลับไปมาระหว่างกันซึ่งจะทำความสะอาดพื้นผิวเป้าหมายด้วยการย้อนกลับแต่ละครั้งเพื่อลดประจุที่สร้างขึ้นบนไดอิเล็กทริกที่นำไปสู่การเกิดประกายไฟซึ่งสามารถพ่นละอองลงในพลาสมาและป้องกันการเติบโตของฟิล์มบางที่สม่ำเสมอซึ่งก็คือ สิ่งที่เราเรียกว่า Target Poisoning
คุณลักษณะเฉพาะทางเทคนิค
| ไม่ | ชื่อ |
| 1 | ระบบปั๊มสุญญากาศ: ปั๊มโมเลกุลเทอร์โบ + ปั๊มราก + ปั๊มกล + ปั๊มโฮลดิ้ง |
| 2 | ระบบวัดสุญญากาศ: Pirani + Penning Gauges |
| 3 | ระบบทำความร้อน: เครื่องทำความร้อนสำหรับพื้นผิวที่ร้อนขึ้นเพื่อปรับปรุงการยึดเกาะ |
| 4 | ระบบกระจายน้ำ / อากาศอัด: การออกแบบโมดูลาร์และออกแบบตามความต้องการ |
| 5 | แคโทดสปัตเตอร์กระบอกสูบ: 2/4/6/8 คู่ของฝาแฝดเป้าหมายสำหรับตัวเลือก |
| 6 | วาล์วประตูสุญญากาศ (เป็นตัวเลือก) |
| 7 | ตู้ไฟฟ้า (มาตรฐาน CE) |
| 8 | ห้องสุญญากาศ (SS304 / 316L ตามที่ร้องขอ) |
| 9 | Cathodic Arc Source (แคโทดอาร์คธรรมดา) |
| 10 | View Port (2 ตัวกระจายที่ประตูสำหรับการตรวจสอบภายในห้องสะสม) |
| 11 | ระบบจ่ายก๊าซแปรรูป (Meter Flow Controller สำหรับ 4 ช่อง) |
| 12 | Rack Driving System (แบบจำลองการขับขี่ของดาวเคราะห์) |
| 13 | ม้าหมุน |
| คำอธิบาย | RTAS1250 | RTAS1612 |
| ห้องสะสม (มม.) | φ1250 * H1250 | φ1600 * H1250 |
|
การขับรถบนดาวเคราะห์ พื้นที่เคลือบที่มีประสิทธิภาพ (มม.) |
8: φ270 * H850 10: φ230 * H850 |
10: φ300 * H850 16: φ200 * H850 |
| Circular Arc Cathode (ชุด) | 7 | 12 |
| แคโทดสปัตเตอร์กระบอกสูบ (คู่) | 3/4 | 4/6 |
|
พลังอคติแบบพัลซิ่ง (กิโลวัตต์) |
36 | 48 |
| DC / MF สปัตเตอร์เพาเวอร์ (KW) | 36 | 4 * 36 |
| อาร์คพาวเวอร์ (KW) | 7 * 5 | 12 * 5 |
| ปั๊มสุญญากาศ |
2 * ปั๊มโมเลกุลเทอร์โบ 1 * SV300B 1 * WAU1001 1 * TRP60 |
3 * ปั๊มโมเลกุลเทอร์โบ 2 * SV300B 1 * WAU2001 1 * TRP90 |
| สูงสุดการใช้พลังงาน (KW) | 200 | 245 |
| การใช้พลังงานเฉลี่ย (KW) | <75 | <100 |
| พื้นที่ใช้งาน (L * W * H) มม | 4300 * 3700 * 2800 | 5,000 * 4000 * 2800 |
การกำหนดค่าที่ยืดหยุ่น: เครื่องตั้งค่าตามกระบวนการเคลือบและความต้องการของลูกค้า
Insite
