| เทคโนโลยี | MF แมกนีตรอนความถี่กลาง |
|---|---|
| Pre-ทำความสะอาด | Linear Anode Ion เป็นพลาสม่าที่มีการบำบัดล่วงหน้า |
| แคโทดสปัตเตอร์ | MF 2 คู่ DC 2 ปารีส |
| เป้าหมายการเคลือบผิว | ทองแดง, ไทเทเนียม, โครเมี่ยม, อลูมิเนียม, Au Gold, Ag Silver, สแตนเลส |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| เทคโนโลยีสูญญากาศ | การชุบอาร์ค, MF การทับถมของแมกแมกตรอน |
|---|---|
| แหล่งที่มาของการสะสม | กระบอกอาร์คหรือแคโทดอาร์คแบบวงกลม |
| ฟิล์มเคลือบ | การชุบฟิล์มโลหะ, ไทเทเนียมไนไตรด์, ไทเทเนียมคาร์ไบด์, เซอร์โคเนียมไนไตรด์, โครเมียมไนไตรด์, TiAlN, C |
| งานอุตสาหกรรม | อุปกรณ์ห้องน้ำเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แอพพลิเคชัน | ผลิตภัณฑ์สแตนเลส, มีด, กรรไกร, ปากคีบเคลือบ TiN ฮาร์ด |
|---|---|
| ภาพยนตร์ PVD | ความแข็งสูง, การยึดเกาะที่แข็งแกร่ง, ความต้านทานการกัดกร่อนสูง |
| เทคโนโลยี | ผู้ช่วยพลาสม่าเคลือบ PVD, ไอออนชุบ, MF สปัตเตอร์ |
| ชื่อ | ระบบการชุบไอออน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| เทคโนโลยี | การชุบอาร์คไอออน + การสะสมสปัตเตอร์ PVD |
|---|---|
| คุณสมบัติ | ผลผลิตสูง ความสม่ำเสมอสูง การใช้งานเป้าหมายสูง |
| ข้อดี | กระบวนการทำงานที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม |
| พื้นผิว | ชิ้นส่วนพลาสติก ABS, โลหะผสมทองเหลือง, Zamak, โลหะผสม ฯลฯ |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | DC magnetron แคโทดสปัตเตอร์ |
|---|---|
| การชุบเงิน | การชุบ PVD, คูเปอร์สปัตเตอร์ริ่ง, การชุบเงิน, การชุบ, การยึดเกาะ |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | การสะท้อนสูงการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ชื่อ | เครื่องแมกนีตรอนสปัตเตอริง |
| ใบสมัคร | อลูมิเนียม / พลาสติก / โลหะบอร์ด cirucit ชุบชั้นฟิล์มเป็นสื่อกระแสไฟฟ้าของ |
| แบบจำลองอุปกรณ์ | โครงสร้างรูปทรงหลายเหลี่ยม |
|---|---|
| แหล่งที่มาของการสะสม | arc + DC / MF สปัตเตอร์ |
| เทคโนโลยี | กระบวนการ PECVD, การชุบ PVD |
| วัสดุ | SS304 / SS316L |
| แอพพลิเคชัน | DLC, ฟิล์มแข็ง, การเคลือบฟิล์มกรองแสงโดย Magnetron Sputtering |
| แหล่งระเหย | ถ้วยใส่ตัวอย่างโมลิบดีนัม |
|---|---|
| วัสดุสะสม | Cs I, การสะสมสูญญากาศ, สารเคลือบระเหยแบบฟิล์มบาง |
| แอปพลิเคชั่น | หน้าจอเอ็กซ์เรย์ทางการแพทย์, การถ่ายภาพทางทันตกรรม, การตรวจสอบความปลอดภัย, ฟิสิกส์พลังงานสูง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| เทคโนโลยี | แคโทดแบบ DC สปัตเตอร์และแหล่งกำเนิดความร้อน |
|---|---|
| สิ่งอำนวยความสะดวก | โครงสร้าง 2 ประตูห้องแนวตั้งเพื่อเพิ่มผลผลิต |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| บริการทั่วโลก | Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| บริการทั่วโลก | Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| แหล่งที่มาของการสะสม | ยื่นแม่เหล็กสมดุล / ไม่สมดุล |
|---|---|
| เทคนิค | PECVD, Magentron Sputtering Cathode ที่สมดุล / ไม่สมดุล |
| แอพพลิเคชัน | ยานยนต์, เซมิคอนดักเตอร์, การเคลือบ SiC, การสะสมฟิล์ม DLC, |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | ยื่นแม่เหล็กสมดุล / ไม่สมดุล |
|---|---|
| แอพพลิเคชัน | ยานยนต์, เซมิคอนดักเตอร์, การเคลือบ SiC, การสะสมฟิล์ม DLC, |
| ความหนาของฟิล์ม | ช่วงจาก 100 นาโนเมตรถึง12μmความอดทนความหนา± 5% |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
