| วัสดุ | เหล็กกล้าไร้สนิมหรือเหล็กกล้าคาร์บอน |
|---|---|
| แอปพลิเคชัน | พลาสติก, PMMA, ABS, PU, PC , แก้ว , เคลือบเรซิน |
| วัสดุระเหย | อะลูมิเนียม นิกเกิล โครเมียม เงิน ทอง อินเดียม ซิน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| บริการทั่วโลก | Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| แหล่งที่มาของการสะสม | การระเหยส่วนโค้งของ Cathodic |
|---|---|
| ฟิล์มสะสม | TiN, TiAlN, CrN ฯลฯ |
| แอพพลิเคชัน | เคลือบแข็งหน้าที่ |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ทนทานเพิ่มอายุการใช้งานการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยมและความต้านทานการสึกหรอ |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| เทคโนโลยี | เคลือบสูญญากาศ CVD, เคลือบ Parylene, เคลือบสูญญากาศนาโน |
|---|---|
| การประยุกต์ใช้งาน | อวกาศ, วัตถุล้ำค่า, ยางซิลิโคน, ซีล, วัสดุแม่เหล็ก, MEMS, แผงวงจร, เซ็นเซอร์, ไบโอเมดิก้า |
| บริการ | อุปกรณ์เคลือบ Parylene และบริการเคลือบ parylene |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc Evaporation |
|---|---|
| ฟิล์มสะสม | TiN, TiAlN, CrN เป็นต้น |
| แอปพลิเคชั่น | สารเคลือบแข็งที่ใช้งานได้จริง |
| คุณสมบัติฟิล์ม | ทนทาน ยืดอายุการใช้งานของเครื่องมือ ทนต่อการกัดกร่อนและการสึกหรอได้ดีเยี่ยม |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | DC / MF Sputtering Cathodes แหล่งกำเนิดไอออนเชิงเส้นแอโนด |
|---|---|
| เทคนิค | PECVD, Magentron Sputtering Cathode ที่สมดุล / ไม่สมดุล |
| การประยุกต์ใช้งาน | ยานยนต์, เซมิคอนดักเตอร์, การเคลือบ SiC, การสะสมฟิล์ม DLC, |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ใบสมัคร | R&D, labrotary |
|---|---|
| แหล่งที่มาของการระเหย | แคโทดสปัตเตอร์ปืนสปัตเตอร์ RF รุ่น MF |
| วัสดุสะสม | Si, Ti, อลูมิเนียม, ทอง, เงิน, โครเมียม, ทองแดง, อินเดียม, อินเดียมดีบุกออกไซด์, นิกเกิล |
| การเคลือบสี | เคลือบแสง, เคลือบแข็ง, ITO, DLC ฯลฯ |
| แอพพลิเคชัน | เซมิคอนดักเตอร์, เซลล์แสงอาทิตย์, เซลล์เชื้อเพลิง, องค์กรวิทยาศาสตร์, มหาวิทยาลัย, ระบบการวิจัยการบิ |
| ห้อง | แนวตั้งแนวนอน, 1 ประตู, ช่องเปิดด้านหน้า |
|---|---|
| ชื่อ | เครื่องเคลือบ pvd ขนาดเล็ก |
| แหล่งที่มาของการระเหย | แคโทดสปัตเตอร์ปืนสปัตเตอร์ RF รุ่น MF |
| วัสดุสะสม | Si, Ti, อลูมิเนียม, ทอง, เงิน, โครเมียม, ทองแดง, อินเดียม, อินเดียมดีบุกออกไซด์, นิกเกิล |
| การเคลือบสี | เคลือบแสง, เคลือบแข็ง, ITO, DLC ฯลฯ |
| ห้อง | วางแนวแนวตั้ง 2 ประตู |
|---|---|
| แหล่งระเหย | DC สปัตเตอร์ริ่ง, ท่อระบายความร้อน, เรือระบายความร้อน, กล่องระบายความร้อน, ก้าน, ถ้วยชาม |
| วัสดุสะสม | อลูมิเนียม, ทอง, เงิน, โครเมียม, ทองแดง, อินเดียม, อินเดียมทินออกไซด์, นิกเกิล |
| แอพพลิเคชัน | เครื่องโต๊ะพลาสติก, หมวกกันน็อกหมวกกันน็อก, อิเล็กทรอนิกส์, อะคริลิค, โคมไฟ, หน้าต่างดูมือถือ, แว่นต |
| ห้องขนาดภายใน | Dia1600 * H1600mm |
| แหล่งที่มาของการสะสม | แคโทดแคโทดแบบบังคับ + MF สปัตเตอริงแคโทด |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| การประยุกต์ใช้งาน | ตัวยึดความแม่นยำเหล็กสกรูโลหะกล้อง |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการทำให้เป็นโลหะ | การระเหยด้วยความร้อน, แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง |
|---|---|
| วัสดุ Web Roll | ฟิล์มพลาสติกโพลีเมอร์ เช่น PET, BOPP, CPP, PVC, PI, โลหะผสม, กระดาษ, กระดาษหิน |
| ความกว้าง Web Roll | ความกว้างไม่กี่นิ้ว ถึง 10 ฟุต |
| ความหนาของการเคลือบ | Thin Film 20~40nm; ฟิล์มบาง 20~40 นาโนเมตร; Heavy Film Up To 1~2 Microns ฟิล |
| น้ำหนักม้วนของเว็บ | พันปอนด์ |
