| แมกนีตรอนสปัตเตอร์แคโทด | แคโทดแบบระนาบหรือทรงกระบอก |
|---|---|
| รุ่นกำลัง | DC, MF |
| แหล่งที่มาของการสะสม | อาร์คคาโทดิก, แมกนีตรอนสปัตเตอร์ |
| การทำความสะอาดพลาสม่า | การทิ้งระเบิดพลาสมาแบบพัลซิ่งอคติ |
| แหล่งกำเนิดไอออน | ประเภทชั้นแอโนดเชิงเส้น |
| แหล่งที่มาของการสะสม | ยื่นแม่เหล็กสมดุล / ไม่สมดุล |
|---|---|
| แอพพลิเคชัน | ยานยนต์, เซมิคอนดักเตอร์, การเคลือบ SiC, การสะสมฟิล์ม DLC, |
| ความหนาของฟิล์ม | ช่วงจาก 100 นาโนเมตรถึง12μmความอดทนความหนา± 5% |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ห้อง | การวางแนวตั้งแนวตั้ง, 1 ประตู |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| แหล่งที่มาของการสะสม | แคโทดสปัตเตอร์ DC / MF |
| เทคนิค | 404 Site www.puresilverjewellery.com is not served on this interface |
| แอพพลิเคชัน | ยานยนต์, เซมิคอนดักเตอร์, การเคลือบ SiC, การสะสมฟิล์ม DLC, |
| แหล่งที่มาของการสะสม | DC / MF Sputtering Cathodes แหล่งกำเนิดไอออนเชิงเส้นแอโนด |
|---|---|
| เทคนิค | PECVD, Magentron Sputtering Cathode ที่สมดุล / ไม่สมดุล |
| การประยุกต์ใช้งาน | ยานยนต์, เซมิคอนดักเตอร์, การเคลือบ SiC, การสะสมฟิล์ม DLC, |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | MF / DC สปัตเตอริง + อาร์คแคโทด |
|---|---|
| ฟิล์มสะสม | เคลือบแข็ง, DLC, เคลือบฟิล์มกรองแสง, เคลือบตกแต่ง |
| แอพพลิเคชัน | กระบวนการ PECVD, ฟิล์ม DLC, Diamond Like Carbon Film, ฟิล์มสปัตเตอร์ริ่ง, |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | การสะท้อนแสงสูงการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยมและความต้านทานการสึกหรอ |
| สีเคลือบ | สีดำและกุหลาบทอง, เคลือบสีฟ้า |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| แอพพลิเคชัน | สกรูน๊อตกล้องโลหะ |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| แอพพลิเคชัน | สกรูน๊อตกล้องโลหะ |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| แอพพลิเคชัน | สกรูน๊อตกล้องโลหะ |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | ยื่นแม่เหล็กสมดุล / ไม่สมดุล |
|---|---|
| แอพพลิเคชัน | ยานยนต์, เซมิคอนดักเตอร์, การเคลือบ SiC, การสะสมฟิล์ม DLC, |
| ความหนาของฟิล์ม | ช่วงจาก 100 นาโนเมตรถึง12μmความอดทนความหนา± 5% |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ห้อง | การวางแนวตั้ง 2 ประตู |
|---|---|
| แหล่งที่มาของการสะสม | ยอดคงเหลือ/ไม่สมดุล ปิด Magnetic Filed |
| เทคนิค | PECVD, แคโทดสปัตเตอริง Magentron ที่สมดุล/ไม่สมดุล |
| แอพพลิเคชั่น | ยานยนต์ เซมิคอนดักเตอร์ การเคลือบ SiC การสะสมฟิล์ม DLC |
| คุณสมบัติฟิล์ม | ทนทานต่อการสึกหรอ ยึดเกาะได้ดี สีเคลือบตกแต่ง |
