| ห้อง | การวางแนวตั้งแนวตั้ง, 1 ประตู, |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| เทคโนโลยีสูญญากาศ | การระเหยส่วนโค้ง |
| แหล่งที่มาของการสะสม | แหล่งกำเนิด Cathodic Arc |
| ฟิล์มเคลือบ | Ti, Cr, TiN, TiCN, CrC, TiO ฯลฯ |
| เป้าหมายสปัตเตอร์ | คาร์บอน, ทองแดง, อลูมิเนียม, ITO, Ti, Cr, สแตนเลส ฯลฯ |
|---|---|
| เทคโนโลยี | แคโทด Sputtering แคโทด DC / MF |
| Pre-ทำความสะอาด | Linear Anode Ion Source พลาสมาการเตรียมพรีเมี่ยม |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ชื่อ | CsI เครื่องสะสมสูญญากาศ |
|---|---|
| วัสดุสะสม | Cs I การสะสมสูญญากาศ |
| แอปพลิเคชั่น | หน้าจอเอ็กซ์เรย์ทางการแพทย์, การถ่ายภาพทางทันตกรรม, การตรวจสอบความปลอดภัย, ฟิสิกส์พลังงานสูง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| บริการทั่วโลก | Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| แหล่งระเหย | ถ้วยใส่ตัวอย่างโมลิบดีนัม |
|---|---|
| วัสดุสะสม | CsI, การสะสมสูญญากาศ |
| แอปพลิเคชั่น | หน้าจอเอ็กซ์เรย์ทางการแพทย์, การถ่ายภาพทางทันตกรรม, การตรวจสอบความปลอดภัย, ฟิสิกส์พลังงานสูง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| บริการทั่วโลก | Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| ห้อง | การวางแนวแนวนอน, 1 ประตู, |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| เทคโนโลยีสูญญากาศ | การชุบ Cathodic Multi Arc, การสะสมอาร์ค PVD |
| แหล่งที่มาของการสะสม | แหล่งที่มาของ Cathodic Arc |
| ฟิล์มเคลือบ | การชุบฟิล์มโลหะ, ไทเทเนียมไนไตรด์, ไทเทเนียมคาร์ไบด์, เซอร์โคเนียมไนไตรด์, โครเมียมไนไตรด์, TiAlN, C |
| แหล่งที่มาของการสะสม | การระเหยอาร์ค |
|---|---|
| ฟิล์มสะสม | TiN TiO อาร์คชุบ |
| แอพพลิเคชัน | อุปกรณ์ห้องน้ำเซรามิก, โมเสคแก้ว, ผู้ถือเทียนแก้ว, ผลิตภัณฑ์ตกแต่งแก้ว, |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| การเคลือบ PVD | TiN, TiO, TiC, TiAlN, TiAlC, CrC, ZrN, CrN, CrCN ฯลฯ |
| ใบสมัคร | อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์อุตสาหกรรมอื่น ๆ ต้องการฟังก์ชั่นการป้องกันสัญญาณรบกวนแม่เหล็กไฟฟ้า |
|---|---|
| วัสดุเคลือบผิว | ทองแดงและสแตนเลส, อลูมิเนียม, โครเมี่ยม, ไทเทเนียม ฯลฯ |
| เทคโนโลยี PVD | การระเหยไส้หลอดทังสเตน, DC Magnetron Sputtering |
| ชื่ออุปกรณ์ | PVD โรงเคลือบสปัตเตอร์ PVD เครื่องเคลือบสูญญากาศ, metallizion สูญญากาศ, metallizer สูญญากาศ, การสะส |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งระเหย | แคโทดสปัตเตอร์ปืนสปัตเตอร์ รุ่น MF |
|---|---|
| วัสดุสะสม | Si, Ti, อลูมิเนียม, ทอง, เงิน, โครเมียม, ทองแดง, อินเดียม, อินเดียมดีบุกออกไซด์, นิกเกิล |
| ชื่อ | เครื่องชุบไอออน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ชื่อ | เครื่องทับถมแทนทาลัม PVD สปัตเตอร์ |
|---|---|
| สารเคลือบ | แทนทาลัม ทอง เงิน ฯลฯ |
| เทคโนโลยี | สปัตเตอร์ DC แบบพัลส์ |
| แอปพลิเคชัน | อุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์, เครื่องมือแพทย์ , สารเคลือบบนชิ้นส่วนที่ทนต่อการกัดกร่อน,, |
| คุณสมบัติฟิล์มตา | แทนทาลัมใช้มากที่สุดในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เป็นสารเคลือบป้องกัน เนื่องจากมีความทนทานต่อการสึกกร่อ |
| ห้อง | การวางแนวตั้งแนวตั้ง, 1 ประตู, |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| เทคโนโลยีสูญญากาศ | การชุบ Cathodic Multi Arc, การสะสมอาร์ค PVD |
| แหล่งที่มาของการสะสม | แหล่ง Cathodic Arc |
| ฟิล์มเคลือบ | การชุบฟิล์มโลหะ, ไทเทเนียมไนไตรด์, ไทเทเนียมคาร์ไบด์, เซอร์โคเนียมไนไตรด์, โครเมียมไนไตรด์, TiAlN, C |
