เครื่องเคลือบ PVD ฟิล์มบาง, สแตนเลสเครื่องเคลือบสูญญากาศสูง

เครื่องเคลือบฟิล์มโลหะ / การประมวลผล PVD / เครื่องเคลือบสูญญากาศเครื่องเคลือบฟิล์มบาง PVD

รายละเอียดสินค้า

เครื่องเคลือบไอออนแบบสูญญากาศแบบหลายอาร์คเป็นผลิตภัณฑ์ที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อมสำหรับโลหะการเคลือบแก้วและพื้นผิว หลังจากการเคลือบด้วยเครื่องนี้สามารถปรับปรุงความแข็งของชิ้นงาน, ความต้านทานการสึกหรอ, ความต้านทาน ฯลฯ อุตสาหกรรมการใช้งานรวมถึงอุตสาหกรรมนาฬิกา (สาย, กรณี, สาย) อุตสาหกรรมแก้วเซรามิก (บนโต๊ะอาหารแก้ว, งานฝีมือเซรามิก), อุตสาหกรรมฮาร์ดแวร์ ลูกบิดประตู, ล็อค), อุตสาหกรรมสถาปัตยกรรม (แผ่นสแตนเลส, ราวบันได, คอลัมน์), อุตสาหกรรมแม่พิมพ์ที่มีความแม่นยำ (แม่พิมพ์หมัดมาตรฐาน, แม่พิมพ์ขึ้นรูป), เครื่องมืออุตสาหกรรม (ดอกสว่าน, ใบมีดคาร์ไบด์, broaches, หัวโกน), อุตสาหกรรมยานยนต์ แหวนลูกสูบล้ออัลลอย) รวมทั้งปากกาและแว่นตา ฯลฯ ฟิล์มทำให้พื้นผิวของผลิตภัณฑ์สวยงามและสวมใส่ได้มากขึ้น

คุณสมบัติฟิล์มบางของ PVD

• เสร็จสิ้นความงามที่โดดเด่น
• ความหนาสีสม่ำเสมอ
• ความต้านทานการสึกหรอและการกัดกร่อนที่เหนือกว่า
• การเคลือบ PVD มีระดับความแข็งสูง

ความแม่นยำรัด PVD ฟิล์มบางเครื่องชุบถูกนำไปใช้กับ รัดและอุปกรณ์เช่นสกรู, น็อต, crushes, ฟิตติ้ง, หมวกที่ใช้ในเครื่องสำอาง, ผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์, เครื่องจักรกล, อุตสาหกรรมยานยนต์มีการใช้กันอย่างแพร่หลายในเทคโนโลยี PVD เพื่อให้ได้สี Panton หลากหลายช่วง ทอง, สีดำ, สีฟ้า, สีเทา, สีเงิน, สีรุ้ง, สีบรอนซ์, แชมเปญ ฯลฯ

ตัวยึดที่แม่นยำ PVD เครื่องชุบฟิล์มบางแหล่งที่มาของการสะสม
Steered Circular Arc source สำหรับการระเหยของโลหะแข็ง;
2 คู่ของ MF แคโทดสปัตเตอริงที่ไม่ล้ำสำหรับการสะสมชั้นฟิล์มบางกราไฟท์
Bias Power Supply สำหรับ ion bomboardment สร้างพื้นที่พลาสม่าสำหรับการบำบัดล่วงหน้า
หน่วยแหล่งกำเนิดไอออนเชิงเส้นแบบแอโนด (สำหรับอุปกรณ์เสริม) การประมวลผล PACVD และ PECVD
Cryopump (Polycold) สำหรับการกลั่นตัวของโมเลกุลน้ำ (สำหรับอุปกรณ์เสริม)

โครงสร้างเครื่องชุบฟิล์มบางของ PVD
1. ห้องสูญญากาศ
2. ระบบปั๊มสูญญากาศ Rouhging (แพคเกจสำรองปั๊ม)
3. ระบบปั๊มสูญญากาศสูง (Magnetic Molecular Pump)
4. ระบบควบคุมไฟฟ้าและระบบปฏิบัติการ
5. ระบบสิ่งอำนวยความสะดวก Auxiliarry (ระบบย่อย)
6. ระบบการสะสม: แคโทด MF สปัตเตอร์, แหล่งจ่ายไฟ MF, แหล่งจ่ายไฟไอออน Bias สำหรับอุปกรณ์เสริม

พรีซิชั่นรัด PVD การชุบฟิล์มบางประสิทธิภาพ Machin
1. ความดันสูญญากาศที่ดีที่สุด: ดีกว่า 5.0 × 10 ^{- 6} Torr
2. ความดันสูญญากาศในการใช้งาน: 1.0 × 10 ^{- 4} Torr
3. เวลาสูบน้ำ: จาก 1 atm ถึง 1.0 × 10 ^{- 4} Torr≤ 3 นาที (อุณหภูมิห้อง, แห้ง, ห้องสะอาดและว่างเปล่า)
4. วัสดุ Metalizing (สปัตเตอร์ + Arc ระเหย): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, ฯลฯ
5. รุ่นการทำงาน: เต็มอัตโนมัติ / กึ่งอัตโนมัติ / ด้วยตนเอง

ความแม่นยำรัด PVD ข้อมูลจำเพาะเทคนิคการชุบฟิล์มบาง

ขนาดเครื่องที่กำหนดเองยังมีอยู่ตามผลิตภัณฑ์ที่ต้องการ

กรุณาติดต่อเราสำหรับรายละเอียดเพิ่มเติม Royal Technology ได้รับเกียรติให้บริการโซลูชั่นการเคลือบแบบครบวงจร