Tantalum (Ta) Thin Film Magnetron Sputtering Deposition System-RTSP1000 ระบบการฝังทองเหลือง (Ta)

การฝากของทองทัล, ทองคําโลหะมีค่าโดยการกระจาย 

การกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจาย,นิโอบีਅਮ ซึ่งต้องใช้อุณหภูมิการฝากที่สูงมาก, และโลหะมีค่า: ทองคําและเงิน และยังใช้สําหรับการฝากของโลหะที่มีจุดละลายต่ํากว่า เช่น ทองแดง, อลูมิเนียม, นิเคิล, โครม เป็นต้น

ทานทัลม์ ใช้กันมากที่สุดในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ อุตสาหกรรมเป็นเคลือบป้องกัน เนื่องจากความทนทานที่ดีต่อการบด.

ฟิล์มทันทัลสเปตเตอร์ถูกใช้อย่างแพร่หลายใน
1อุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากฟิล์มสามารถกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจาย

2อุปกรณ์ทางการแพทย์ เช่น อุปกรณ์ฝังในร่างกาย สําหรับคุณสมบัติความเข้ากันได้อย่างสูง

3. การเคลือบบนส่วนที่ทนทานต่อการกัดกร่อน เช่น หุบน้ําร้อน, ร่างของวาล์ว, และเครื่องแนบ

4.Tantalum สปูเตอร์ยังสามารถใช้เป็นอุปสรรคการต่อต้านการกัดกร่อนที่มีประสิทธิภาพถ้าการเคลือบเป็นต่อเนื่อง, มีความบกพร่องและติดต่อกับพื้นฐาน.

เทคโนโลยีราชอาณาจักรรางวัลระบบการฝากทองเหลือง Tantalum ที่ได้รับมาตรฐาน: รุ่น RTSP1000
 คุณสมบัติของฟิล์มที่กระจายทันทัล:
ความต้านทานต่ํา

การเคลือบผิวที่มีความทนทานต่อการกัดกร่อนและการสกัด ถูกเผชิญกับความกดดันสูง และสภาพแวดล้อมทางเคมีและการละลายที่รุนแรง 

ลักษณะการออกแบบ:

การออกแบบที่แข็งแกร่ง คุณภาพที่มั่นคง วงจรเร็ว ระบบแม่นยําสูง

โครงสร้างอุปกรณ์:

โครงสร้างระบบเคลือบ: แนวทางตั้ง โครงสร้างทรงแปดเหลี่ยม 2 ประตูเพื่อการเข้าถึงง่าย

ระบบที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม ไม่มีขยะอันตราย

การบูรณาการทั้งหมด การออกแบบแบบโมดูล
ขายและมาตรฐานสําหรับการผลิตขนาดใหญ่ในอุตสาหกรรม
แหล่งไอออนที่มีประสิทธิภาพสูง สําหรับการติดต่อที่แข็งแกร่ง และการไอออนสูง
การทํางานง่าย: หน้าจอสัมผัส + การควบคุม PLC, การทํางานหนึ่งสัมผัส
การออกแบบพิเศษของระบบ Carousel สําหรับการฝังแบบเดียวกันสูง
ผลผลิตสูงและมั่นคง ทํางานตลอด 24 ชั่วโมงต่อสัปดาห์
อ่อนโยน เหมาะกับแผ่นขนาดต่าง ๆ

ส่วนประกอบสําคัญ

แหล่งไอออนสําหรับกระบวนการฝากสนับสนุน:

แหล่งไอออนสําหรับกระบวนการ plasma iteching:

เครื่อง RT1200-FCEV เป็นระบบสปูเตอร์แบบชุด ซึ่งสามารถฝากเคลือบแข็งหลายชนิด,เคลือบอ่อน,ฟิล์มประกอบและฟิล์มปรับน้ํามันแข็งบนพื้นฐานของวัสดุโลหะและวัสดุที่ไม่ใช่โลหะใช้ในอุตสาหกรรมรถยนต์เซลล์เชื้อเพลิงไฮโดรเจน ผลิตภัณฑ์โฟตอนิก สนามบินและอุตสาหกรรมพลังงานใหม่อื่น ๆ

การทํางานของฟิล์มฝัง:

เพื่อปรับปรุงความสามารถในการนําของพื้นผิว

ความทนทานต่อการกัดกรองสูง

ความทนทานต่อการสกัดสูง

ความแข็งแรงสูง

ฟิล์มประกอบแบบระบายน้ําและฟิล์มประกอบการอื่น ๆ

มีให้เลือกสําหรับเคลือบผสม: หนังโลหะและไม่โลหะ

ช่วงความหนาของฟิล์มจาก 100nm ถึง 12μm ความอดทนความหนา ± 5%

การติดแน่นอย่างแข็งแรง

การบํารุงผิวของชิ้นส่วนที่มีความเข้มแข็งต่ํา

ประเภท

มุมตั้งโครงสร้าง 8 ด้าน 2 ประตู (ด้านหน้าและด้านหลัง)

ข้อดีของการออกแบบ:

• ระบบที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม ไม่มีน้ําเสียอุตสาหกรรม การปนเปื้อนอากาศและเสียง
• การทํางานง่าย: หน้าจอสัมผัส + การควบคุม PLC และโปรแกรมซอฟต์แวร์พิเศษสําหรับการทํางานเพียงสัมผัสเดียว
• ถึง 10 สูตรการประมวลผล การเข้าระบบและการสํารอง; ความสามารถในการซ้ําซ้ําและความหลากหลายสูง
• การออกแบบพิเศษของระบบ Carousel สําหรับความเหมือนกันสูงของการฝากหนัง
• ผลผลิตสูงและคุณภาพสูง
• ระบบที่มั่นคงและน่าเชื่อถือ, การทํางาน 365 วัน * 24 ชั่วโมง (การบํารุงรักษาและซ่อมบํารุงเวลาหยุด)
• ระบบปั๊มประสิทธิภาพ: เส้นทางปั๊มระบายความว่างที่สั้นกว่าสําหรับความเร็วปั๊มสูงสุดกับแบรนด์ปั๊มยุโรปที่รู้จักกันดี
• การออกแบบที่คอมแพคต์ ใช้พื้นที่ในการติดตั้งอย่างน้อย

ติดต่อเราเพื่อรายละเอียดเพิ่มเติม ทีมงาน Royal Tech มีเกียรติที่จะให้บริการคุณ ความรู้