เครื่องชุบ PVD สูญญากาศทอง IPG, เครื่องอาร์ค PVD สำหรับชุบเคลือบแบบอาร์ด

IPG เป็นงานเขียนสั้น ๆ ของ Ion Plating Gold ซึ่งเป็นเทคโนโลยีการอาร์คและการสปัตเตอร์รวมกันเพื่อนำฟิล์มทองบาง ๆ มาวางบนผลิตภัณฑ์หรูหราโดยเฉพาะอย่างยิ่งในอุตสาหกรรมเครื่องประดับเช่นสร้อยคอแหวนแต่งงาน

วัสดุเครื่องประดับส่วนใหญ่เป็นเหล็กกล้าไร้สนิม 316L ทองเหลืองหรือโลหะผสม ผู้ผลิตเครื่องประดับสามารถใช้เครื่องชุบทอง IPG ของเราโดยตรงเพื่อรับทองคำกุหลาบ 18K หรือการเคลือบทองคำแท้ 24K ซึ่งช่วยเพิ่มอายุการใช้งานและคุณค่าของผลิตภัณฑ์

คำสำคัญ: ชุบไอออน PVD, ชุบทอง, ไฟฟ้า, การยึดเกาะ, ชุบเครื่องประดับพระเจ้า

ความต้านทานการสึกหรอสูงของ PVD

บทคัดย่อ

การเคลือบผิวแข็งจะต้องตอบสนองความต้องการที่หลากหลายเช่นสีที่ดึงดูดและความต้านทานการสึกหรอสูง สำหรับสินค้าอุปโภคบริโภคที่หรูหราเช่นชิ้นส่วนนาฬิกาเครื่องมือในการเขียนหรือแว่นตาผู้ผลิตบางรายต้องการรักษาทั้งความทนทานต่อการสึกหรอสูงของ PVD และฉลาก“ แผ่นทอง” ซึ่งให้ผลิตภัณฑ์ด้วยภาพ“ คุณภาพสูง” ดังนั้นชั้นชุบทองคำ 3 ถึง 5 ไมครอนจึงต้องวางลงบนชั้น PVD (TiN + Au) วิธีการหลายชั้นนี้สร้างความเครียดภายในสูงซึ่งนำไปสู่ข้อบกพร่องในการยึดเกาะ ต้องตั้งกระบวนการที่สมบูรณ์เพื่อลดความเครียดภายในที่นำไปสู่ข้อบกพร่องในการยึดเกาะ

ทำไมการรวมกันของ “ การ ชุบทองคำ ” และ PVD?

ทองคำยังคงเป็นสีที่ใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการตกแต่งและนี่ไม่น่าจะเปลี่ยนแปลง สำหรับการเคลือบผิวแข็งสีทองการตกแต่งเทคนิคล้ำสมัยในปัจจุบันเกี่ยวข้องกับการเคลือบชั้นทองบาง ๆ ลงบนการชุบแข็งขั้นพื้นฐานซึ่งประกอบด้วย TiN น่าเสียดายที่สปัตเตอร์โลหะผสมทองคำเป็นกระบวนการที่ไม่เกิดปฏิกิริยาและสำหรับโลหะผสมทองคำแต่ละชนิดจะมีสีที่ชัดเจนมาก (สำหรับอุณหภูมิที่สะสมประมาณ 200 ℃)

กระบวนการนี้จะต้องไม่เตือนสีทองสุดท้ายโดยไม่เปลี่ยนเป้าหมายทองคำ ผู้ผลิตบางรายต้องการรักษาทั้งความทนทานต่อการสึกหรอสูงของ PVD และฉลาก“ ชุบทอง” ซึ่งให้ภาพผลิตภัณฑ์คุณภาพสูง สำหรับสามฤดูกาลนี้:

ความต้านทานการสึกหรอสูงของชั้น PVD

ฉลากชุบทอง

ช่วงกว้างของสีทองที่ได้จากการชุบโลหะขั้นสุดท้าย

ตอนนี้จะต้องพบกระบวนการที่เชื่อถือได้ซึ่งจะช่วยให้ทองคำที่มีความหนา (3 ถึง 5 ไมโครเมตร) ไปยังชั้น TiN + Au

Royal Technology มี 3 รุ่นมาตรฐานสำหรับการ ชุบทอง IPG: ส่วนประกอบหลักของเครื่อง IPG:

1. หน่วยอาร์คกระบอกสูบหรือ (แหล่งกำเนิดแคโทดวงกลมแบบวงกลม)

2. Planar Ion Source สำหรับการทำความสะอาดพลาสม่าก่อนเคลือบผิวด้วย PVD

3. การทับถม DC Sputtering Cathode ของ Ag (ทอง)

4. MF Sputtering Cathode ของการเคลือบฟิล์ม TiN

เหนือพารามิเตอร์ทางเทคนิคสำหรับการอ้างอิงเท่านั้น Royaltec ขอสงวนสิทธิ์สำหรับการผลิตขั้นสุดท้ายตามแอปพลิเคชันที่ระบุ เราให้คุณไม่เพียง แต่เครื่องเคลือบเท่านั้น แต่ยังรวมถึงการแก้ปัญหาการเคลือบแบบครบวงจรบริการแบบเบ็ดเสร็จพร้อมให้บริการ

ตัวอย่างการเคลือบ IPG:

กรุณาติดต่อเราสำหรับรายละเอียดเพิ่มเติม Royal Technology ได้รับเกียรติให้บริการโซลูชั่นการเคลือบแบบครบวงจร