เครื่องเคลือบทองแดง Magnetron Sputtering / ระบบสุญญากาศ Magnetron Sputtering Deposition สูง
1
MOQ
Negoitable
ราคา
Copper Magnetron Sputtering Coating Machine / High Vacuum Magnetron Sputtering Deposition System
คุณสมบัติ คลังภาพ รายละเอียดสินค้า ขออ้าง
คุณสมบัติ
ข้อมูลพื้นฐาน
สถานที่กำเนิด: ผลิตในประเทศจีนเซี่ยงไฮ้
ชื่อแบรนด์: ROYAL
ได้รับการรับรอง: CE certification
หมายเลขรุ่น: RTSP
แสงสูง:

magnetron sputtering machine

,

magnetron sputtering equipment

การชำระเงิน
รายละเอียดการบรรจุ: 1 * 40HQ
เวลาการส่งมอบ: 16 สัปดาห์
ข้อมูลจำเพาะ
เทคโนโลยี: แคโทดแมกนีตรอนสปัตเตอริง DC / MF
Pre-ทำความสะอาด: Linear Anode Ion เป็นพลาสม่าที่มีการบำบัดล่วงหน้า
แคโทดสปัตเตอร์: MF 4 ชุด; DC 2 ชุด
เป้าหมายสปัตเตอร์: คาร์บอน, ทองแดง, อลูมิเนียม, ITO, Ti, Cr, สแตนเลส ฯลฯ
ที่ตั้งโรงงาน: เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน
ที่ตั้งโรงงาน: เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน
บริการทั่วโลก: Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
บริการทั่วโลก: Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
บริการฝึกอบรม: การทำงานของเครื่องจักร บำรุงรักษา กระบวนการเคลือบ สูตร โปรแกรม
การรับประกัน: การรับประกันแบบจำกัด 1 ปี ฟรีตลอดอายุการใช้งานสำหรับเครื่อง
OEM & ODM: พร้อมให้บริการ เราสนับสนุนการออกแบบและการผลิตตามสั่ง
OEM & ODM: พร้อมให้บริการ เราสนับสนุนการออกแบบและการผลิตตามสั่ง
รายละเอียดสินค้า
อุปกรณ์สปัตเตอร์ทองแดง / อลูมิเนียม / คาร์บอน, ระบบดูดฝุ่นแมกนีตรอนสปัตเตอริงสูง

ระบบการทับถม UHV Sputtering ใช้แคโทดสปัตเตอร์เป็นแหล่งการสะสม PVD มันมักจะรวมสปัตเตอร์ MF และสปัตเตอร์ DC สำหรับการเคลือบผิว PVD ในอุตสาหกรรม ขึ้นอยู่กับเป้าหมายที่แตกต่างกันและคำขอสปีดของการปะทุความเร็ว Royal Technology มีสปิตเตอร์ทรงกระบอกและแคโทดสปัตเตอร์ระนาบส่วนใหญ่สำหรับอัตราการสะสมที่รวดเร็วเพื่อตอบสนองความต้องการการเคลือบการผลิตภาคอุตสาหกรรม

เครื่องดูดฝุ่นระบบแมกนีตรอนสปัตเตอริง ของเรา นั้นได้ รับการออกแบบสำหรับทองแดง, อะลูยูเนี่ยม, พลาสติก, แผ่นวงจรโลหะที่เป็นสื่อกระแสไฟฟ้า มันสามารถควบแน่นฟิล์มนาโนบางบนพื้นผิว ยกเว้น Ag sputtering มันยังสามารถฝากเป้าหมาย Ni, Au, Ag, Al, Cr, สแตนเลส

มันสามารถเคลือบฟิล์มที่มีความสม่ำเสมอสูงบนพื้นผิวต่าง ๆ : พลาสติก panle, PC panle, แผ่นอลูมิเนียม, แผ่นเซรามิก, เซรามิก Al2O3, AlN, แผ่นซิลิกอนเป็นต้น

เค้าโครงอุปกรณ์เคลือบสปัตเตอร์ RTSP1215

การใช้งานอุปกรณ์เคลือบสปัตเตอร์ RTSP ซีรีส์:

1. มีให้บริการบนพื้นผิวของ: พลาสติก, โพลีเมอร์, แก้วและแผ่นเซรามิก, สแตนเลส, แผ่นทองแดง, แผ่นอลูมิเนียม ฯลฯ

2. เพื่อสร้างภาพยนตร์นาโนเช่น: TiN, TiC, TiCN, Cr, CrC, CrN, Cu, Ag, Au, Ni, Al ฯลฯ

คุณสมบัติการออกแบบอุปกรณ์เคลือบสปัตเตอร์ RT-SP ซีรี่ส์:

1. การออกแบบที่แข็งแกร่งเหมาะสำหรับพื้นที่ห้อง จำกัด

2. เข้าถึงได้ง่ายสำหรับการบำรุงรักษาและซ่อมแซม

3. ระบบสูบน้ำที่รวดเร็วสำหรับผลตอบแทนสูง

4. ตู้ไฟฟ้ามาตรฐาน CE, UL มาตรฐานนอกจากนี้ยังมี

5. ฝีมือการผลิตที่ถูกต้อง

6. การ ทำงานที่มั่นคงเพื่อรับประกันการผลิตภาพยนตร์ที่มีคุณภาพสูง

แหล่งที่มาของไอออนเป็นต้นฉบับจาก บริษัท Gencoa คุณสมบัติ:

1. ปรับสนามแม่เหล็กให้เหมาะสมเพื่อผลิตลำแสงพลาสมาที่ปรับสมดุลที่ความดันสปัตเตอร์แบบมาตรฐาน

2. กฎระเบียบอัตโนมัติสำหรับก๊าซเพื่อรักษากระแสคงที่และแรงดันไฟฟ้า - การควบคุมอัตโนมัติหลายก๊าซ

3. แกรไฟต์แอโนดและแคโทดเพื่อปกป้องพื้นผิวจากการปนเปื้อนและให้ส่วนประกอบที่ยาวนาน

4. ฉนวนไฟฟ้ามาตรฐาน RF สำหรับแหล่งกำเนิดไอออนทั้งหมด

5. การระบายความร้อนโดยตรงของขั้วบวกและขั้วบวก - การสลับชิ้นส่วนอย่างรวดเร็ว

6. การสลับชิ้นส่วนแคโทดง่าย ๆ เพื่อให้กับดักแม่เหล็กหลายตัวสำหรับการทำงานของแรงดันไฟฟ้าต่ำหรือลำแสงที่โฟกัส

7. แหล่งจ่ายไฟควบคุมแรงดันพร้อมข้อเสนอแนะการปรับก๊าซเพื่อรักษากระแสเดียวกันตลอดเวลา

สูญญากาศสูงแมกนีตรอนสปัตเตอร์ระบบการสะสมข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค:

MODEL RT1215-SP
วัสดุ สแตนเลส (S304)
ขนาดห้อง Φ1200 * 1500 มม. (H)
ประเภทห้อง โครงสร้าง 1 ประตูแนวตั้ง
แพคเกจปั๊มเดี่ยว ปั๊มสุญญากาศใบพัดหมุน
ปั๊มสุญญากาศ Roots
ปั้มแม่เหล็กโมเลกุล
ปั๊มสุญญากาศใบพัดหมุนสองขั้นตอน
เทคโนโลยี MF Magnetron สปัตเตอร์แหล่งกำเนิดไอออนเชิงเส้น
พาวเวอร์ซัพพลาย แหล่งจ่ายไฟสปัตเตอร์ + แหล่งจ่ายไบอัส + แหล่งกำเนิดไอออน
แหล่งเงินฝาก 4 คู่ MF แคโทดสปัตเตอร์ + แหล่งกำเนิดไอออน + สปัตเตอร์ DC
ควบคุม PLC + Touch Screen
ก๊าซ เครื่องวัดอัตราการไหลของก๊าซ (Ar, N2, C2H2, O2) อาร์กอน, ไนโตรเจนและเอทไทน์, ออกซิเจน
ระบบความปลอดภัย ความปลอดภัยเชื่อมต่อกันมากมายเพื่อปกป้องผู้ปฏิบัติงานและอุปกรณ์
COOLING น้ำเย็น
การทำความสะอาด Glow Discharge / Ion Source
POWER MAX 120KW
การใช้พลังงานเฉลี่ย 70KW

อุปกรณ์สปัตเตอร์ทองแดง / อลูมิเนียม / คาร์บอนส่วนประกอบสำคัญ:

1. ระบบปั๊มที่แข็งแกร่ง: ปั๊มสำรอง Leybold + โอซาก้าแม่เหล็กระงับโมเลกุลปั๊ม

2. ระบบจำหน่ายตู้น้ำ / แก๊ส

3. ระบบกระจายแคโทดแบบสปัตเตอร์

กรุณาติดต่อเราสำหรับรายละเอียดเพิ่มเติม Royal Technology ได้รับเกียรติให้บริการโซลูชั่นการเคลือบแบบครบวงจร

แนะนำผลิตภัณฑ์
ติดต่อกับพวกเรา
แฟกซ์ : 86-21-67740022
อักขระที่เหลืออยู่(20/3000)