การเคลือบผิวด้วย PVD - ระบบการสะสมฟิล์มบาง ๆ ของโกลด์สปัตเตอร์

 ทองคํามีสีเข้มเหลืองแดงสดใสในรูปแบบที่บริสุทธิ์ที่สุด ไม่ออกซิเดนในอากาศในอุณหภูมิห้องดังนั้นมันจึงคงที่มากในสภาพปกติ และความสามารถในการนําไฟฟ้าของมันคงที่มันคือหนึ่งในโลหะมีค่าที่ใช้กันทั่วไปที่สุดในการทําปลาย

ทองเหลืองทนทานต่อการกัดกร่อน ทําให้มันเป็นการเสร็จที่ดีสําหรับปินเชื่อมต่อและสายต่อไฟฟ้า

การเคลือบทองคําถูกใช้ในชิ้นส่วนและส่วนประกอบในอุตสาหกรรมหลักหลายสาย:

1. การใช้งานทางการแพทย์: อุปกรณ์เสริมร่างกาย
2. พลังงาน: ไฮโดรเจน เซลล์เชื้อเพลิง
3. ชิปไมโครเอเล็คทรอนิกส์
4. การบินและการป้องกัน
5. โทรคมนาคม และอื่นๆ

ROYAL Technology จําหน่ายสินค้าด้านการเคลือบเคลือบมือสอง สําหรับผู้ผลิตที่กําลังมองหาทีมงานที่น่าเชื่อถือได้ สําหรับการร่วมมือในระยะยาว

การออกแบบที่แข็งแกร่ง ชุดขนาดใหญ่ วงจรเร็ว กระบวนการเคลือบที่ยืดหยุ่น เป็นแนวคิดการออกแบบพื้นฐานที่ทีมงาน ROYAL ได้ปฏิบัติ

ข้อดีของการออกแบบ

1. ประหยัดพลังงาน: การออกแบบที่คอมแพคต์และการใช้ปั๊มโมเลกุล
2. การใช้เป้าหมายสูงถึง 40% กับแคธอดการกระจายแผ่น
3. ความหนาของฟิล์มทองคํา Au ที่ถูกกระจายได้ สามารถควบคุมได้
4. ระบบการทํางานแบบ One-Touch

PVD การฝังทองคํา

1. เมื่อมันมาถึงแก้ว, โลหะเหล็ก ฯลฯ วัสดุ substrate, ชั้นการผูกพันเป็นสิ่งจําเป็นในการเพิ่ม substrate และ Auffilm การติดตามRoyal Technology ได้พัฒนาสูตรการเคลือบที่มีความช้าช้าหลายแบบให้บริการลูกค้าของเราด้วยคําปรึกษาทางมืออาชีพ
2. ความหยาบคาย (RMS) < 40 Å คาดว่าสําหรับการใช้งานส่วนใหญ่ สําหรับการใช้งานซอนดสแกนบางส่วนอาจต้องความหยาบคายต่ํากว่า โดยทั่วไป 1.5 ~ 4 nm
3. ความบริสุทธิ์บนผิวชั้นพ่นทองคํา: ผิวที่สะอาดจําเป็นสําหรับการใช้งานที่ใช้การปรับปรุงผิวทองคํา. ขึ้นอยู่กับกระบวนการ PVD ที่ใช้, ระดับความว่างในระบบความบริสุทธิ์เดิมของแหล่งทองคํา (มากกว่า 99%).99% โดยทั่วไป)
   
    

   ข้อมูลการใช้งาน:

   แบบ: RTSP800

   เทคโนโลยี: สปูเตอร์ DC + แหล่งไอออน (เป็นตัวเลือก)

   วัสดุ: สแตนเลส

   ขนาดห้อง: Φ800*H800mm

   ประเภทห้อง: กระบอก, สูง, 1 ประตู

   ระบบเรคหมุน: ดาวเคราะห์ / การขับเคลื่อนกลาง

   วัสดุในการฝาก: ทองคํา อลูมิเนียม เงิน ทองแดง โครม สแตนเลส นิเคิล ไทเทเนียม

   แหล่งฝาก: คาโทดกระจายกระจาย

   คาโทดวงโค้งแบบปกติ สําหรับตัวเลือก ((ตามความต้องการของกระบวนการเคลือบ)

   การควบคุมก๊าซปฏิกิริยา: MFC, 2/4 ทาง

   CONTROL PLC ((เครื่องควบคุมโลจิกที่สามารถเขียนโปรแกรมได้) + IPC

   ระบบปั๊ม:
   SV300B 1 ชุด (Leybold) 300m3/hr

   ปั๊มราก 1 ชุด 490m3/hr

   ปั๊มที่เก็บไว้ 1 ชุด 60m3/hr

   ปั๊มโมเลกุลทอร์โบ: 1 ชุด 3500L/S

   หน่วยไฟฟ้า: หน่วยไฟฟ้า Bias: 1*24 KW

   พลังการกระจาย DC: 12KW

   แหล่งไอออนเส้น: 5KW

   ระบบรักษาความปลอดภัย: การล็อคกันความปลอดภัยมากมาย เพื่อปกป้องผู้ใช้งานและอุปกรณ์

   การรีไซเคิล: น้ําเย็น

   เครื่องทําความร้อน: เครื่องทําความร้อน 9KW

   พลังงานไฟฟ้า:
   480V/3 ช่วง/60HZ (สหรัฐอเมริกา)

   460V/3 ช่วง/50HZ (สอดคล้องกับเอเชีย)

   380V/3 ช่วง/50HZ (สอดคล้องกับ EU-CE)

   รูปเท้า: L3200*W2600*H2000mm

   น้ําหนักรวม: 4.0 ตัน

   เวลาวงจร: 30 ~ 40 นาที (ขึ้นอยู่กับวัสดุของสับสราท, กณิตศาสตร์ของสับสราทและสภาพแวดล้อม)

   พลังงานสูงสุด: 50KW

   การบริโภคพลังงานเฉลี่ย (ประมาณ) 20KW

   

ภายใน

โปรดติดต่อเราเพื่อข้อมูลเพิ่มเติม เราเปิดใจให้สื่อสารและแบ่งปันเทคนิคที่ทันสมัยกับคุณเสมอ