กระบวนการ PVD เป็นกระบวนการสะสมของอะลูมิเนียมซึ่งวัสดุที่ระเหยออกจากแหล่งจะถูกขนส่งในรูปของไอผ่านสูญญากาศหรือสภาวะความดันต่ำหรือพลาสม่ากับพื้นผิวซึ่งจะควบแน่น กระบวนการ PVD สามารถนำมาใช้ในการเก็บฟิล์มของธาตุและโมเลกุลและสารประกอบ
วัสดุโดยปฏิกิริยาของการฝากวัสดุกับสภาพแวดล้อมของก๊าซแวดล้อม (เช่น TiN) หรือด้วย co-
การฝากวัสดุ (เช่น TiC) โดยปกติกระบวนการ PVD จะใช้เพื่อฝากฟิล์มที่มีความหนาในช่วงไม่กี่นาโนเมตรไปจนถึงหลายพัน nanometers; อย่างไรก็ตามพวกเขาสามารถนำมาใช้ในการก่อตัวเป็นชั้นของชั้นวางของวัสดุเคลือบหลายชั้นเงินฝากที่หนามากและโครงสร้างแบบอิสระ
รอยัลเทคโนโลยีมีจุดมุ่งหมายเพื่อปรับปรุงมาตรฐานการครองชีพด้วยโซลูชั่นเคลือบที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม
กระบวนการ PVD เป็นกระบวนการสะสมของอะลูมิเนียมซึ่งวัสดุที่ระเหยออกจากแหล่งจะถูกขนส่งในรูปของไอผ่านสูญญากาศหรือสภาวะความดันต่ำหรือพลาสม่ากับพื้นผิวซึ่งจะควบแน่น กระบวนการ PVD สามารถนำมาใช้ในการเก็บฟิล์มของธาตุและโมเลกุลและสารประกอบ
วัสดุโดยปฏิกิริยาของการฝากวัสดุกับสภาพแวดล้อมของก๊าซแวดล้อม (เช่น TiN) หรือด้วย co-
การฝากวัสดุ (เช่น TiC) โดยปกติกระบวนการ PVD จะใช้เพื่อฝากฟิล์มที่มีความหนาในช่วงไม่กี่นาโนเมตรไปจนถึงหลายพัน nanometers; อย่างไรก็ตามพวกเขาสามารถนำมาใช้ในการก่อตัวเป็นชั้นของชั้นวางของวัสดุเคลือบหลายชั้นเงินฝากที่หนามากและโครงสร้างแบบอิสระ
รอยัลเทคโนโลยีมีจุดมุ่งหมายเพื่อปรับปรุงมาตรฐานการครองชีพด้วยโซลูชั่นเคลือบที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม
