ชิ้นส่วนโลหะสีน้ำเงินแมกนีตรอนสปัตเตอริงเครื่องเคลือบ MF IP อุปกรณ์การชุบ PVD สีน้ำเงิน
ชุดที่ 9
MOQ
negotiable
ราคา
Blue Metal Parts Magnetron Sputtering Coating Machine,  MF IP Blue PVD Plating Equipment
คุณสมบัติ คลังภาพ รายละเอียดสินค้า ขออ้าง
คุณสมบัติ
ข้อมูลพื้นฐาน
สถานที่กำเนิด: ทำในประเทศจีน
ชื่อแบรนด์: ROYAL
ได้รับการรับรอง: CE
หมายเลขรุ่น: RTAS1200
แสงสูง:

magnetron sputtering machine

,

vacuum deposition equipment

การชำระเงิน
รายละเอียดการบรรจุ: มาตรฐานการส่งออกบรรจุในกล่อง / กล่องใหม่เหมาะสำหรับการขนส่งทางทะเล / ทางอากาศในระยะทางไกลและการขนส่ง
เวลาการส่งมอบ: 12 สัปดาห์
เงื่อนไขการชำระเงิน: L / C, D / A, D / P, T / T
สามารถในการผลิต: 6 ชุดต่อเดือน
ข้อมูลจำเพาะ
แหล่งที่มาของการสะสม: Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode
เทคนิค: PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode
แอพพลิเคชัน: สกรูน๊อตกล้องโลหะ
คุณสมบัติของฟิล์ม: ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง
ที่ตั้งโรงงาน: เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน
ที่ตั้งโรงงาน: เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน
บริการทั่วโลก: Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
บริการทั่วโลก: Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
บริการทั่วโลก: Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
บริการฝึกอบรม: การทำงานของเครื่องจักร บำรุงรักษา กระบวนการเคลือบ สูตร โปรแกรม
บริการฝึกอบรม: การทำงานของเครื่องจักร บำรุงรักษา กระบวนการเคลือบ สูตร โปรแกรม
บริการฝึกอบรม: การทำงานของเครื่องจักร บำรุงรักษา กระบวนการเคลือบ สูตร โปรแกรม
การรับประกัน: การรับประกันแบบจำกัด 1 ปี ฟรีตลอดอายุการใช้งานสำหรับเครื่อง
OEM & ODM: พร้อมให้บริการ เราสนับสนุนการออกแบบและการผลิตตามสั่ง
รายละเอียดสินค้า

ชิ้นส่วนโลหะสีน้ำเงิน MF Sputtering System เป็นเครื่องรวบรวมแหล่งสะสมหลายแหล่งรวมกับกราไฟท์ทั่วไปเจ็ทแบล็กสีน้ำเงินสี ฯลฯ ตกแต่งบนชิ้นส่วนโลหะวัตถุสแตนเลส โดยเฉพาะอย่างยิ่งใช้สำหรับสินค้าหรูหราระดับไฮเอนด์เช่น: อิเล็กทรอนิกส์: สมาร์ทโฟน, กล้อง, แล็ปท็อป, กอล์ฟ, ช้อน, ส้อม, มีด, มือจับประตู, faucets; เครื่องประดับของแหวนนิ้ว, สร้อยคอ, หูแหวน, กำไล ฯลฯ

ชิ้นส่วนโลหะสีฟ้าระบบ MF Sputtering มีแหล่งสะสมหลายแหล่ง:
Steered Circular Arc source สำหรับการระเหยของโลหะแข็ง;

2 คู่ของ MF แคโทดสปัตเตอริ่งที่ไม่สมดุลสำหรับการสะสมชั้นฟิล์มบางของกราไฟท์

Bias Power Supply สำหรับ ion bomboardment สร้างพื้นที่พลาสม่าสำหรับการบำบัดล่วงหน้า

หน่วยแหล่งกำเนิดไอออนเชิงเส้นแบบแอโนด (สำหรับอุปกรณ์เสริม) การประมวลผล PACVD และ PECVD

Cryopump (Polycold) สำหรับการกลั่นตัวของโมเลกุลน้ำ (สำหรับอุปกรณ์เสริม)

MF Sputtering คืออะไร

เมื่อเปรียบเทียบกับ DC และ RF sputtering Mid-Frequency Sputtering ได้กลายเป็นเทคนิคสปัตเตอร์ฟิล์มบางหลักสำหรับการผลิตจำนวนมากของการเคลือบโดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับการสะสมฟิล์มของการเคลือบฟิล์มอิเล็กทริกและไม่นำไฟฟ้าบนพื้นผิวเช่นการเคลือบแสง ฟิล์มคอมโพสิตวัสดุ ฯลฯ

มันกำลังแทนที่ RF sputtering เนื่องจากมันทำงานด้วย kHz มากกว่า MHz สำหรับอัตราการสะสมที่เร็วกว่ามากและยังสามารถหลีกเลี่ยงพิษเป้าหมายในระหว่างการสะสมฟิล์มบาง ๆ เช่น DC

MF สปัตเตอร์มีเป้าหมายอยู่เสมอด้วยสองชุด สองแคโทดใช้กับกระแส AC สลับไปมาระหว่างกันซึ่งทำความสะอาดพื้นผิวเป้าหมายด้วยการกลับด้านแต่ละครั้งเพื่อลดประจุที่เกิดขึ้นบนไดอิเล็กตริกที่นำไปสู่การเกิดประกายไฟซึ่งสามารถพ่นหยดลงในพลาสม่า ซึ่งเป็นสิ่งที่เราเรียกว่าเป้าหมายการเป็นพิษ

ประสิทธิภาพของระบบสปัตเตอริง MF

1. ความดันสูญญากาศที่ดีที่สุด: ดีกว่า 5.0 × 10 - 6 Torr

2. ความดันสูญญากาศในการใช้งาน: 1.0 × 10 - 4 Torr

3. เวลาสูบน้ำ: จาก 1 atm ถึง 1.0 × 10 - 4 Torr≤ 3 นาที (อุณหภูมิห้อง, แห้ง, ห้องสะอาดและว่างเปล่า)

4. วัสดุ Metalizing (สปัตเตอร์ + Arc ระเหย): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, ฯลฯ

5. รุ่นการทำงาน: เต็มอัตโนมัติ / กึ่งอัตโนมัติ / ด้วยตนเอง

โครงสร้างระบบ MF สปัตเตอร์

เครื่องเคลือบสูญญากาศมีระบบเสร็จสมบูรณ์ที่สำคัญด้านล่าง:

1. ห้องสูญญากาศ

2. ระบบปั๊มสูญญากาศ Rouhging (แพคเกจสำรองปั๊ม)

3. ระบบปั๊มสูญญากาศสูง (Magnetic Molecular Pump)

4. ระบบควบคุมไฟฟ้าและระบบปฏิบัติการ

5. ระบบสิ่งอำนวยความสะดวก Auxiliarry (ระบบย่อย)

6. ระบบการสะสม: แคโทด MF สปัตเตอร์, แหล่งจ่ายไฟ MF, อคติแหล่งจ่ายไฟไอออนสำหรับตัวเลือก

ชิ้นส่วนโลหะสีฟ้าตกแต่ง MF ระบบสปัตเตอร์ขนาด:

ขนาดภายในห้อง: Dia 1200 mm ~ 1600mm
ความสูงภายในห้อง: 1250mm ~ 1300mm

ขนาดเครื่องที่กำหนดเองนั้นยังมีอยู่ตามความต้องการ specular ของผลิตภัณฑ์ 3D

MF Sputtering System ข้อมูลจำเพาะ RTAC1250-SPMF

MODEL RTAC1250-SPMF
เทคโนโลยี MF Magnetron Sputtering + การชุบไอออน
วัสดุ สแตนเลส (S304)
ขนาดห้อง Φ1250 * H1250mm
ประเภทห้อง ทรงกระบอกแนวตั้ง 1 ประตู
ระบบการแยก ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการสะสมฟิล์มสีดำบาง ๆ
วัสดุการฝาก อลูมิเนียม, เงิน, ทองแดง, โครม, สแตนเลส,
นิกเกิล
แหล่งเงินฝาก 2 ชุด MF เป้าหมายกระบอกสปัตเตอร์ + 8 แหล่ง Cathodic Arc Steered + แหล่งไอออนสำหรับตัวเลือก
ก๊าซ MFC- 4 วิธี, Ar, N2, O2, C2H2
ควบคุม PLC (Programmable Logic Controller) +
ระบบปั๊ม SV300B - 1 ชุด (เลย์โบลด์)
WAU1001 - 1 ชุด (เลย์โบลด์)
D60T- 1 ชุด (เลย์โบลด์)
ปั๊มโมเลกุลโมเลกุล: 2 * F-400/3500
การรักษาก่อน แหล่งจ่ายไฟมีอคติ: 1 * 36 กิโลวัตต์
ระบบความปลอดภัย ความปลอดภัยเชื่อมต่อกันมากมายเพื่อปกป้องผู้ปฏิบัติงาน
คูลลิ่ง น้ำเย็น
พลังงานไฟฟ้า 480V / 3 phases / 60HZ (สอดคล้องกับ USA)
460V / 3 phases / 50HZ (สอดคล้องกับข้อกำหนดของเอเชีย)
380V / 3 phases / 50HZ (สอดคล้องกับ EU-CE)
รอยเท้า L3000 * * * * * * * * W3000 H2000mm
น้ำหนักรวม 7.0 T
รอยเท้า (L * W * H) 5,000 * 4000 * 4000 MM
รอบเวลา 30 ~ 40 นาที (ขึ้นอยู่กับวัสดุพื้นผิว
เรขาคณิตของพื้นผิวและสภาพแวดล้อม)
POWER MAX .. 155 กิโลวัตต์

พลังงานเฉลี่ย

การบริโภค (ไปอีกประมาณ)

75 กิโลวัตต์

 

กรุณาติดต่อเราสำหรับรายละเอียดเพิ่มเติม Royal Technology ได้รับเกียรติให้บริการโซลูชั่นการเคลือบแบบครบวงจร

แนะนำผลิตภัณฑ์
ติดต่อกับพวกเรา
แฟกซ์ : 86-21-67740022
อักขระที่เหลืออยู่(20/3000)