การเคลือบแข็งบนเครื่องมือ

การเคลือบผิวแบบแข็งซึ่งเกิดขึ้นจากกระบวนการ PVD แบบรีแอกทีฟซึ่งใช้เทคโนโลยีพลาสมา กำลังเป็นที่นิยมใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเครื่องมือ

แหล่งการกลายเป็นไอที่พบบ่อยที่สุดสำหรับการชุบไอออนของสารเคลือบแข็งคือแหล่งที่ไม่สมดุล-แมกนีตรอน- -สปัตเตอร์ และแหล่งกำเนิดไอโอดีน-อาร์ค-ไอการทิ้งระเบิดระหว่างการสะสมทำได้โดยทั่วไปโดยการใช้ความเอนเอียงเชิงลบ (-200 ถึง -300 โวลต์ ) กับสารตั้งต้นและเร่งไอออนบวกสู่พื้นผิวจากพลาสมาอัตราส่วนที่สูงของการทิ้งระเบิดไอออนต่ออะตอมที่สะสมเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการทำให้วัสดุที่สะสมหนาแน่นในแหล่งกำเนิดที่ไม่สมดุล-แมกนีตรอน-สปัตเตอร์ อะตอมที่สปัตเตอร์เพียงไม่กี่อะตอมจะถูกแตกตัวเป็นไอออนแต่ในแหล่งกำเนิดอาร์คแคโทดิก เปอร์เซ็นต์ของอะตอมที่กลายเป็นไอนั้นสูงจะถูกทำให้แตกตัวเป็นไอออนเนื่องจาก “ฟิล์มไอออน” เหล่านี้มีมวลมากกว่าไอออนของแก๊ส พวกมันจึงสามารถพ่นพื้นผิวและอัดฟิล์มให้หนาแน่นได้ดีกว่าโดย “อะตอมพีนิง”

การเคลือบเครื่องมืออุตสาหกรรมโดยทั่วไปมีความหนา 1.5 ถึง 4 ไมครอน

RTAC-1214 ข้อมูลจำเพาะ: