| เทคโนโลยีการเคลือบผิว | การสปัตเตอร์ การระเหย การบำบัดด้วยพลาสมา |
|---|---|
| คุณสมบัติอุปกรณ์ | โครงสร้างที่แข็งแรง การออกแบบรอยเท้าที่กะทัดรัด ประสิทธิภาพสูง และการควบคุมการทำงานที่แม่นยำ |
| การเคลือบผิว | กระดาษอิเล็กทรอนิกส์ ฟิล์ม ITO วงจรไฟฟ้าโซลาร์เซลล์ แถบการแพทย์ และ RFID |
| การควบคุมการทำงาน | การควบคุม PLC และ IPC ที่ใช้งานง่าย |
| บริการและการฝึกอบรม | มีจำหน่ายจากวิศวกรและช่างเทคนิคของสหรัฐอเมริกา |
| เทคโนโลยีการเคลือบผิว | การสปัตเตอร์ การระเหย การบำบัดด้วยพลาสมา |
|---|---|
| คุณสมบัติอุปกรณ์ | โครงสร้างที่แข็งแรง การออกแบบรอยเท้าที่กะทัดรัด ประสิทธิภาพสูง และการควบคุมการทำงานที่แม่นยำ |
| การเคลือบผิว | กระดาษอิเล็กทรอนิกส์ ฟิล์ม ITO วงจรไฟฟ้าโซลาร์เซลล์ แถบการแพทย์ และ RFID |
| การควบคุมการทำงาน | การควบคุม PLC และ IPC ที่ใช้งานง่าย |
| บริการและการฝึกอบรม | มีจำหน่ายจากวิศวกรและช่างเทคนิคของสหรัฐอเมริกา |
| ห้อง | การวางแนวตั้งแนวตั้ง, 1 ประตู |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | การสะท้อนแสงสูงการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยมและความต้านทานการสึกหรอ |
| ชื่อ | ระบบแมกนีตรอนสปัตเตอริงทองแดง |
| เทคโนโลยี | กระติกเก็บความร้อน PVD Cooper |
| ห้อง | การวางแนวตั้งแนวตั้ง, 1 ประตู |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| เทคโนโลยีสูญญากาศ | การระเหยส่วนโค้ง, การชุบอาร์คไอออน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | แคโทดอาร์คหรือ Circular Arc Cathodes |
| ฟิล์มเคลือบ | การชุบฟิล์มโลหะ, ไทเทเนียมไนไตรด์, ไทเทเนียมคาร์ไบด์, เซอร์โคเนียมไนไตรด์, โครเมียมไนไตรด์, TiAlN, C |
| แหล่งที่มาของการสะสม | DC magnetron แคโทดสปัตเตอร์ |
|---|---|
| การชุบเงิน | ชุบ PVD, Silverplating, ไฟฟ้า, การยึดเกาะ |
| แอพพลิเคชัน | การชุบเงินในบ้านโคมไฟเพื่อการสะท้อนแสงสูง |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | การสะท้อนสูงการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ห้อง | การวางแนวตั้งแนวตั้ง, 1 ประตู |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | การสะท้อนแสงสูงการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยมและความต้านทานการสึกหรอ |
| ลักษณะการทำงาน | Ag Au, SS, Cu ฯลฯ การทำโลหะให้เป็นโลหะบริสุทธิ์ |
| ใบสมัคร | เรซิ่นผลิตภัณฑ์พลาสเตอร์ |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| คุณสมบัติการชุบ PVD | ความต้านทานการสึกหรอสูง, ความแข็งสูงที่อุณหภูมิการทำงานสูง, ความต้านทานการเกิดออกซิเดชันสูงแรงเสียดท |
| คุณสมบัติของอุปกรณ์ | เชื่อถือได้ยืดหยุ่นยืดหยุ่นออกแบบแข็งแกร่งให้ผลเร็วรอบเร็วความจุสูง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | อาร์คแคโทด, แมกนีตรอนสปัตเตอร์ |
|---|---|
| ฟิล์มเคลือบ | การชุบฟิล์มโลหะ, Titanium Nitride, Titanium Carbide, Zirconium Nitride, Chromium Nitride, TiAlN, CrC |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| บริการทั่วโลก | Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| บริการฝึกอบรม | การทำงานของเครื่อง การบำรุงรักษา ขั้นตอนการเคลือบ สูตร โปรแกรม |
| เป้าหมายสปัตเตอร์ | คาร์บอน, ทองแดง, อลูมิเนียม, ITO, Ti, Cr, สแตนเลส ฯลฯ |
|---|---|
| เทคโนโลยี | แคโทด Sputtering แคโทด DC / MF |
| Pre-ทำความสะอาด | Linear Anode Ion Source พลาสมาการเตรียมพรีเมี่ยม |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ห้อง | การวางแนวตั้ง 1 ประตู |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| คุณสมบัติฟิล์ม | สะท้อนแสงสูง ทนต่อการกัดกร่อนและการสึกหรอได้ดีเยี่ยม |
| ชื่อ | ระบบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ทองแดง |
| เทคโนโลยี | กระติกน้ำสูญญากาศ PVD Cooper Deposition |
