8-RT1600-PAPVD-Polymer Plastic Metallization อุปกรณ์...แคตตาล็อกใหม่ล่าสุด: การชุบอาร์ค PVD สำหรับชิ้นส่วนพลาสติกวิศวกรรม

RTAC-SPMF sesries แหล่งที่มาของการสะสมคือ: อาร์คแคโทด;MF สปัตเตอร์แคโทดพร้อมแม่เหล็กปิดแบบบาลานซ์/ไม่เบลนด์อุปกรณ์แหล่งกำเนิดไอออนเป็นอุปกรณ์สำคัญในการสร้างพลาสมาซึ่งช่วยเพิ่มการยึดเกาะของฟิล์มเราได้พัฒนาหน่วยแหล่งกำเนิดไอออนโดยเฉพาะหรือใช้ผลิตภัณฑ์ของบริษัท Gencoa

ด้วยอุปกรณ์เคลือบ PVD:

1. สามารถฝากฟิล์มโลหะบริสุทธิ์และฟิล์มโลหะผสมได้จำนวนมากถ้าห้องสุญญากาศผ่านมากของก๊าซปฏิกิริยาและสามารถเคลือบฟิล์มสารต่างๆมีการใช้ไม่เพียงแต่กับไฟแช็กเท่านั้น แต่ยังใช้กับการก่อสร้างและการชุบตกแต่งที่จำเป็นในชีวิตประจำวัน (การชุบทองเลียนแบบ, การชุบหลายสี,....), การเคลือบเครื่องมือกล, การเคลือบป้องกันการกัดกร่อนในอุตสาหกรรมนิวเคลียร์, สารเคลือบสารหล่อลื่นที่เป็นของแข็ง ในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศรวมถึงสารเคลือบอื่น ๆ ของสารเคลือบ funcational ต่างๆ

2. ข้อได้เปรียบ: อัตราการตกสะสมสูง, อัตราการแตกตัวเป็นไอออนสูง, ใช้งานง่าย, ผลผลิตสูงและต้นทุนต่ำไม่มีของเสียจากก๊าซและน้ำ แมกนีตรอนสปัตเตอร์อย่างเสถียรที่อุณหภูมิต่ำ

3. โหมดการทำงาน:

(1) กึ่งอัตโนมัติ/อัตโนมัติ

(2) การทิ้งระเบิดอัตโนมัติ

(3) การควบคุมเวลาในกระบวนการต่างๆ อย่างแม่นยำ

4. สีเคลือบ: ทอง กุหลาบทอง ทองดำ กาแฟ เงิน ทองแชมเปญ หลากสี ฯลฯ

5. ฟิล์มเคลือบ: ฟิล์มไททาเนียมไนไตรด์, ฟิล์มไทเทเนียมคาร์ไบด์, ฟิล์มเซอร์โคเนียมไนไตรด์, ฟิล์มอลูมิเนียมไทเทเนียม,

โครเมียมไนไตรด์และฟิล์มโลหะที่ใช้งานได้ดีเยี่ยมอื่นๆ (ชิ้นงานที่เคลือบด้วยเครื่องเคลือบไอออนสามารถปรับปรุงความแข็ง ทนต่อการสึกหรอ ป้องกันการกัดกร่อน และสวยงามมากขึ้น)

6. คุณสมบัติของฟิล์มเคลือบ: การยึดเกาะที่แข็งแรง ความแน่นที่ดี การทำซ้ำได้ดีและความสม่ำเสมอของสี

การเคลือบที่มีประสิทธิภาพสูง การเคลือบที่สว่างสูง

รุ่นอุปกรณ์เคลือบ PVD

 โปรดติดต่อเราเพื่อขอรายละเอียดเพิ่มเติม Royal Technology รู้สึกเป็นเกียรติที่ได้นำเสนอโซลูชั่นการเคลือบแบบครบวงจรแก่คุณ