ทองคำเป็นหนึ่งในโลหะที่เรืองแสงได้อย่างสวยงามและมีค่ามากที่สุดในโลก เนื่องจากความสามารถในการเปล่งแสง สะท้อนพลังงาน และต้านทานการหมองPVD หรือ Physical Vapor Deposition Gold Sputtering มักใช้ในอุตสาหกรรมนาฬิกาและเครื่องประดับเพื่อผลิตสารเคลือบผิวที่มีความแข็งและทนทาน และไม่หลุดลอกเมื่อสัมผัสกับผิวหนังหรือเสื้อผ้าอย่างต่อเนื่อง และทำให้สูญเสียความเงา

นอกจากนี้ PVD Gold Sputtering ยังใช้สำหรับการเคลือบแผงวงจรและชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์เนื่องจากมีค่าการนำไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม สำหรับการเคลือบใยแก้วนำแสง แบตเตอรี่ และก๊อกน้ำและฟิกซ์เจอร์ระดับไฮเอนด์กระบวนการ Gold Sputtering เป็นสิ่งที่มีค่าสำหรับการปลูกถ่ายทางชีวการแพทย์ที่ทำหน้าที่เป็นสารเคลือบรังสีที่มองเห็นได้ในรังสีเอกซ์ และขั้นตอนการช่วยชีวิต เช่น การเคลือบตัวอย่างเนื้อเยื่อเพื่อให้มองเห็นได้สำหรับการสแกนภายใต้กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน

การเคลือบด้วยสปัตเตอริงทองเป็นกระบวนการเคลือบฟิล์มบาง ซึ่งทองหรือโลหะผสมทองถูกฉีดด้วยไอออนพลังงานสูงในห้องสุญญากาศ ส่งผลให้อะตอมหรือโมเลกุลของทองถูก "สปัตเตอริง" เข้าไปในไอระเหยและกลั่นตัวเป็นหยดน้ำบนพื้นผิวที่จะเคลือบ เช่น เครื่องประดับ , แผงวงจรไฟฟ้า หรือวัสดุปลูกถ่ายทางการแพทย์

———- บทความข้างต้นมาจาก Semircore

การชุบทองบนของตกแต่ง

การเคลือบแข็งเพื่อการตกแต่งต้องเป็นไปตามข้อกำหนดที่หลากหลาย เช่น สีสันที่สวยงามและความทนทานต่อการสึกหรอสูงสำหรับสินค้าอุปโภคบริโภคที่หรูหรา เช่น ชิ้นส่วนนาฬิกา เครื่องมือเขียน หรือแว่นตา ผู้ผลิตบางรายต้องการรักษาทั้งความทนทานต่อการสึกหรอสูงของ PVD และฉลาก "แผ่นทอง" ซึ่งให้ภาพลักษณ์ "คุณภาพสูง" แก่ผลิตภัณฑ์ดังนั้นชั้นของการชุบทอง 3 ถึง 5 ไมครอนจึงต้องถูกเคลือบไว้บนชั้น PVD (TiN+Au)วิธีการหลายชั้นนี้ทำให้เกิดความเครียดภายในระดับสูงซึ่งนำไปสู่ข้อบกพร่องในการยึดเกาะต้องมีการตั้งค่ากระบวนการที่สมบูรณ์เพื่อลดความเครียดภายในที่นำไปสู่ข้อบกพร่องในการยึดเกาะ

Royal Technology พัฒนากระบวนการ IPG ที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในสายนาฬิกา หน้าปัดนาฬิกา เครื่องประดับ เช่น แหวน สร้อยคอ สร้อยข้อมือ เครื่องเขียน เครื่องประดับหรูหราสำหรับผู้บริโภค
 

ทำไมการรวมกันของ “ การชุบทอง” และพีวีดี?

สีทองยังคงเป็นสีที่ใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการตกแต่ง และสิ่งนี้ไม่น่าจะเปลี่ยนแปลงสำหรับการเคลือบแข็งเพื่อการตกแต่งด้วยสีทอง เทคนิคล้ำสมัยในปัจจุบันเกี่ยวข้องกับการเคลือบทองผสมชั้นบนบางๆ ลงบนการเคลือบแข็งพื้นฐานซึ่งประกอบด้วย TiNน่าเสียดายที่การสปัตเตอร์ของโลหะผสมทองคำเป็นกระบวนการที่ไม่เกิดปฏิกิริยา และสำหรับโลหะผสมทองคำที่แตกต่างกันแต่ละชนิดจะได้สีที่ชัดเจนมาก (สำหรับอุณหภูมิการสะสมที่ประมาณ 200 ℃)

กระบวนการนี้ต้องไม่แจ้งเตือนสีทองสุดท้ายโดยไม่เปลี่ยนเป้าหมายทองผู้ผลิตบางรายยังต้องการรักษาทั้งความทนทานต่อการสึกหรอสูงของ PVD และฉลาก “ชุบทอง” ซึ่งให้ภาพคุณภาพสูงแก่ผลิตภัณฑ์สำหรับสามฤดูกาลนี้:

ความต้านทานการสึกหรอสูงของชั้น PVD

ป้ายชุบทอง

สีทองหลากหลายสีที่มอบให้โดยขั้นสุดท้ายชุบ

ขณะนี้ต้องหากระบวนการที่เชื่อถือได้ซึ่งช่วยให้ทองคำชุบด้วยไฟฟ้าหนา (3 ถึง 5 ไมครอน) ลงบนชั้น TiN+Au

รูปที่ 1.0

กระบวนการนี้เรียกว่า IPGIPG เป็นคำย่อของ Ion Plating Gold ซึ่งเป็นเทคโนโลยีของการอาร์คและการสปัตเตอร์ที่รวมกันเพื่อฝากฟิล์มบางของทองคำไว้บนสินค้าฟุ่มเฟือย โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเครื่องประดับ เช่น สร้อยคอ แหวนแต่งงาน ต่างหู นาฬิกา เครื่องประดับกระเป๋าถือ ฯลฯ

วัสดุเครื่องประดับส่วนใหญ่เป็นสแตนเลส 316L ทองเหลืองหรือโลหะผสมหลังจากการปรับสภาพเบื้องต้นแล้ว ผู้ผลิตเครื่องประดับสามารถใช้เครื่องชุบทอง IPG ของเราโดยตรงเพื่อรับการเคลือบทองคำสีกุหลาบ 18K หรือทองคำแท้ 24K ซึ่งช่วยเพิ่มอายุและมูลค่าของผลิตภัณฑ์ได้อย่างมาก

Royal Technology ให้บริการโซลูชั่นการเคลือบ PVD สำหรับความต้องการทองคำ IPG ที่หลากหลาย: เครื่องประดับทองคำ IPG, สร้อยคอ, แหวนนิ้ว, ชิ้นส่วนโลหะในกระเป๋าถือ, นาฬิกา, ผลิตภัณฑ์กีฬา, เครื่องเขียน, สมาร์ทโฟน, ผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์ ฯลฯ

สำหรับสีทอง IPG ตั้งแต่สีทองอ่อนไปจนถึงสีทองเข้ม เรามีกระบวนการเคลือบสีที่ได้สีตามที่ลูกค้าต้องการ โดยมีเป้าหมายและสูตรการเคลือบที่แตกต่างกัน

เราพัฒนาและปฏิบัติตามกระบวนการเคลือบ PVD อย่างเคร่งครัดภายนอกและภายในของการทำความสะอาดห้องสุญญากาศ PVD (การทำความสะอาดด้วยคลื่นอัลตราโซนิก, การทำความสะอาดด้วยการยิงพลาสมา) ;ภายนอกและภายในของการทำให้แห้งในห้องสุญญากาศ PVD (เตาอบแห้ง ภายในห้องทำให้แห้งด้วยเครื่องทำความร้อนสูงถึง 250°C เพื่อปรับปรุงการยึดเกาะของฟิล์มเคลือบ)

Royal Technology มี 3 เครื่องจักรมาตรฐาน

1. หน่วยอาร์คทรงกระบอกหรือ (แหล่งที่มาของอาร์คคาโทดิกแบบวงกลมที่บังคับทิศทาง)
2. Planar Ion Source สำหรับการทำความสะอาดพลาสม่าก่อนเคลือบ PVD
3. DC Sputtering Cathode ของการทับถมของ Ag (ทองคำ)
4. MF Sputtering Cathode ของการเคลือบฟิล์ม TiN

เค้าโครง – RTAS1000

พารามิเตอร์ทางเทคนิคข้างต้นสำหรับการอ้างอิงเท่านั้นรอยัลเทคโนโลยีขอสงวนสิทธิ์ในการผลิตขั้นสุดท้ายตามการใช้งานที่กำหนดเราให้บริการคุณไม่เพียงแค่เครื่องเคลือบผิวเท่านั้น แต่ยังรวมถึงโซลูชันการเคลือบผิวทั้งหมด รวมถึงบริการโครงการแบบเบ็ดเสร็จ

ภายใน
 

เวลาสร้าง: 2558

ที่ตั้ง: เจ้อเจียง ประเทศจีน

การออกแบบที่กะทัดรัดพร้อมแหล่งการเคลือบที่หลากหลาย