PVD ฟิล์มบางฟังก์ชั่นเครื่องเคลือบ / PVD เคลือบแข็งอุปกรณ์บนเครื่องมือ

การเคลือบแข็งเกิดขึ้นจากกระบวนการปฏิกิริยาการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) แบบปฏิกิริยาโดยอาศัยเทคโนโลยีพลาสมาซึ่งกำลังถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมเครื่องมือ
เพื่อให้ได้สารเคลือบที่มีความแข็งตึงทนต่อการสึกหรอและการกัดกร่อนมากที่สุดอุณหภูมิของพื้นผิวจะต้องสูงที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้และการทิ้งระเบิดพร้อมกันโดยใช้อนุภาคขนาดอะตอมที่มีพลัง ตัวอย่างเช่นในการฝึกซ้อมการชุบเหล็กชุบแข็งพื้นผิวจะร้อนถึง 450 ℃หรือมากกว่านั้นก่อนที่จะเริ่มการสะสม การทำความร้อนล่วงหน้าสามารถทำได้โดยการทิ้งระเบิดอิออนซึ่งจะทำความสะอาดพื้นผิวของสปัตเตอร์หรือใช้แหล่งความร้อนอื่น ๆ ในห้องสะสม
ในระหว่างกระบวนการเคลือบแข็ง PVD สำหรับเครื่องมือมันไม่ได้เปลี่ยนขนาดทางกายภาพของชิ้นส่วนอย่างมีนัยสำคัญ
พลาสมาแก๊สที่ใช้สำหรับการสะสมปฏิกิริยาเป็นส่วนผสมของอาร์กอนไนโตรเจนและเอทไทน์ องค์ประกอบของการเคลือบจะแตกต่างกันไปตามส่วนผสมของแก๊ส

แหล่งที่มาของการกลายเป็นไอที่พบบ่อยที่สุดสำหรับการชุบไอออนของสารเคลือบผิวแข็งคือแหล่งที่ไม่สมดุลของแมกนีตรอน การทิ้งระเบิดในระหว่างการทับถมนั้นสามารถทำได้โดยการใช้อคติลบ (-200 ถึง -300 โวลต์) กับสารตั้งต้นและเร่งไอออนบวกให้กับพื้นผิวจากพลาสมา อัตราส่วนที่สูงของการทิ้งระเบิดของอิออนต่อการฝากอะตอมเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการทำให้วัสดุที่ทับถมหนาแน่น ในแหล่งที่ไม่สมดุลแมกนีตรอนสปัตเตอริงอะตอมสปัตเตอร์บางตัวจะถูกทำให้เป็นไอออน แต่ในส่วนโค้งของแหล่งกำเนิดแคโทดจะมีการแตกตัวเป็นไอออนในสัดส่วนที่สูง เนื่องจาก“ ฟิล์มอิออน” เหล่านี้มีมวลสูงกว่าไอโอนิกแก๊สพวกมันจึงสามารถปะทุพื้นผิวและทำให้ฟิล์มมีความหนาแน่นมากขึ้นโดย“ อะตอมมิกพีเจน”

การเคลือบเครื่องมืออุตสาหกรรมโดยทั่วไปจะมีความหนา 1.5 ถึง 4 ไมครอน

ข้อมูลอ้างอิงทั่วไป: คู่มือการศึกษาเกี่ยวกับกระบวนการเคลือบผิวสูญญากาศเขียนโดย Donald M. Mattox, 2009 โดย Society of Vacuum Coater

การใช้งาน:

การเคลือบแบบแข็งเริ่มมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในการเคลือบตกแต่งและเครื่องมืออุตสาหกรรม (HSS หรือ HSC)
วัสดุ) เคลือบมีความต้านทานต่อการสึกหรอและการกัดกร่อนมากขึ้นเพื่อตอบสนองการทำงานของเครื่องมือได้อย่างน่าเชื่อถือและมีอายุการใช้งานที่ยาวนานกว่าโดยทั่วไป 2-3 เท่า
เครื่องมือตัด: (การเคลือบที่แนะนำ: AlTiN / TiAlN, TiCN และ TiN)

เลื่อย, กัด, แทรกซีเอ็นซี (ใช้การกลึงอย่างหนัก), เจาะ, hobbing และเครื่องตัดเกียร์ ฯลฯ
การเจาะและการขึ้นรูป (การเคลือบที่แนะนำ: CrN, TiCN และ TiN)
ปั๊มโลหะ
การขึ้นรูป (แม่พิมพ์ฉีดพลาสติก) - (การเคลือบที่แนะนำ: TiCN และ TiN)
หล่อตาย
ส่วนประกอบที่มีความแม่นยำ
อื่น ๆ เช่น: เครื่องมือเครื่อง, เครื่อง texitile, การเคลือบใหม่, การใช้งานที่เหลาอีกครั้งเป็นต้น

คำอธิบายเครื่องเคลือบฟิล์มบาง

1. ระบบอุปกรณ์ RT-HAC ประกอบด้วย: สูญญากาศในห้อง, ปั๊มสูญญากาศ, แหล่งโค้ง, แกนหมุนและแจ็ค, โครงสร้างจิ๊ก, ความร้อนและความเย็น, น้ำและก๊าซ (การกระจาย), ระบบควบคุมไฟฟ้าและระบบปฏิบัติการเป็นต้น
2. แอพลิเคชัน: เคลือบทำงานอุตสาหกรรมสำหรับเครื่องมือหนัก
3. ฟิล์มเคลือบ: ดีบุก, TiC, CrN, AlTiN ฯลฯ
4. ข้อดีของการเคลือบผิว: ความแข็งสูงและความต้านทานการสึกหรอและการกัดกร่อนเพิ่มอายุการใช้งานของเครื่องมือและคุณภาพชิ้นงานที่ดีขึ้น "

PVD (การสะสมไอทางกายภาพ) เป็นเทคโนโลยีการเคลือบพื้นผิวที่ใช้กันอย่างแพร่หลายและทันสมัยที่สุดในโลกในปัจจุบัน มันสามารถรับการเคลือบไมโครมิเตอร์และการรักษาพื้นผิวที่ปลอดมลภาวะได้ ในสภาวะสูญญากาศสารเคลือบจะถูกระเหยด้วยวิธีทางกายภาพของไอออนและสะสมไว้ในการเคลือบบนพื้นผิวของผลิตภัณฑ์
คุณสมบัติการเคลือบ PVD:

(1) การยึดเกาะที่ยอดเยี่ยม: การเคลือบ PVD มีการยึดเกาะสูงและความทนทาน มันสามารถนำไปใช้กับการดัดในมุมที่แตกต่างกันโดยไม่ต้องแตกหรือแตก มันสามารถใช้สำหรับการตกแต่งภายในและภายนอก
(2) ป้องกันการเกิดออกซิเดชัน, ความต้านทานการกัดกร่อน: คุณสมบัติทางเคมีที่มีเสถียรภาพในสภาพแวดล้อมปกติในร่มและกลางแจ้งสามารถเป็นสารต้านอนุมูลอิสระไม่ง่ายที่จะจางหายไปรักษาความมันวาวของโลหะ
(3) เพิ่มความแข็งผิว: ความแข็งของฟิล์มที่วัดโดย Micro สูงถึง HV2250
ชนิดและความหนาของชั้นเคลือบ
(1) สายพันธุ์ของสารเคลือบผิว:
เทคโนโลยีการเคลือบ PVD สามารถเตรียมฟิล์มไนไตรด์ (TiN [ไทเทเนียมทองคำ), ZrN [ทองเซอร์โคเนียม], CrN, TiAlN] และฟิล์มคาร์ไบด์ (TiC, TiCN) และฟิล์มออกไซด์ (TiO และอื่น ๆ )
(2) ความหนาของชั้นฟิล์ม:
ความหนาของฟิล์มคือไมโครมิเตอร์และความหนาของฟิล์มเคลือบโดยทั่วไป 0.3 um ~ 0.5 mu

กรุณาติดต่อเราสำหรับรายละเอียดเพิ่มเติม Royal Technology ได้รับเกียรติให้บริการโซลูชั่นการเคลือบแบบครบวงจร