ข้อดี:
PVD สปัตเตอร์ + ไอออนชุบให้ข้อดีที่ไม่เหมือนใคร:
1. มีประสิทธิภาพทางเศรษฐกิจสร้างฟิล์มเคลือบที่บางที่สุดและสม่ำเสมอที่สุด
2. กระบวนการเคลือบแห้งที่อุณหภูมิต่ำในห้องสุญญากาศ
3. มีความสามารถที่หลากหลายและสามารถใช้สำหรับการสะสมของวัสดุที่เป็นสื่อกระแสไฟฟ้าหรือไม่เป็นสื่อกระแสไฟฟ้าในวัสดุพิมพ์ทุกประเภทเช่นโลหะเซรามิกวัสดุพลาสติก
4. การเคลือบหลายชั้นทำได้ง่าย 5. อัตราการสะสมอย่างรวดเร็วและเสร็จสิ้นพื้นผิวที่มีคุณภาพสูง
เทคโนโลยีการเคลือบผิว:
แมกนีตรอนสปัตเตอร์ระนาบแคโทดิก (แคโทดทรงกระบอกสปัตเตอร์ทรงกระบอก) แนะนำทำให้สีเคลือบสะท้อนแสงได้มากขึ้นพื้นผิวเคลือบผิวเรียบเนียนมากขึ้นไม่มีจุดและรูเข็ม
ผลิตภัณฑ์เคลือบคุณภาพสูงสนองความต้องการของการใฝ่หาระดับสูง
ข้อมูลจำเพาะมาตรฐาน RTAC-SP
| แบบ | ขนาด (mm) | จำนวนแท่งดาวเคราะห์ | แหล่งกำเนิด Cathodic Arc | แคโทดสปัตเตอร์ | แหล่งกำเนิดไอออน | แหล่งจ่ายไฟไบแอส (kVA) |
| RTAC950-SP | 950xH1350 2 ประตู | 3 | 8 | 4 ภาพถ่าย | แอโนดเชิงเส้น | 1 * 36 |
| RTAC1213-SP | 1250xH1350 2 ประตู | 48 | 8 | 4 ภาพถ่าย | แอโนดเชิงเส้น | 1 * 30, AE |
| RTAC1250-SP | 1250xH1250 | 6,8,12,16 | 8 | 4 ~ 8 กระบอก | ขึ้นอยู่กับกระบวนการเคลือบและผลิตภัณฑ์ | 1 * 36 |
| RTAC1008-SP | 1000xH800 | 3 | 6 | 2 กระบอก | 1 * 24 | |
| RTAC1616-SP | 1600xH1600 | 6 * 6 | 9 | 2 กระบอกหรือภาพถ่าย | 1 * 48 | |
| RTAC1618-SP | 1600x1800 | 6,8,10 | 18 | 4 กระบอก | 1 * 48 |
วิดีโอฝาก TiN บนชิ้นส่วนโลหะ
