PVD (การสะสมไอทางกายภาพ) เป็นเทคโนโลยีการเคลือบพื้นผิวที่ใช้กันอย่างแพร่หลายและทันสมัยที่สุดในโลกในปัจจุบัน มันสามารถรับการเคลือบไมโครมิเตอร์และการรักษาพื้นผิวที่ปลอดมลภาวะได้ ในสภาวะสูญญากาศวัสดุเคลือบจะถูกระเหยด้วยวิธีทางกายภาพของไอออนและสะสมไว้ในการเคลือบบนพื้นผิวของผลิตภัณฑ์

คุณสมบัติการเคลือบ PVD:

(1) การยึดเกาะที่ยอดเยี่ยม: การเคลือบ PVD มีการยึดเกาะสูงและความทนทาน มันสามารถนำไปใช้กับการดัดในมุมที่แตกต่างกันโดยไม่ต้องแตกหรือแตก มันสามารถใช้สำหรับการตกแต่งภายในและภายนอก
(2) ป้องกันการเกิดออกซิเดชัน, ความต้านทานการกัดกร่อน: คุณสมบัติทางเคมีที่มีเสถียรภาพในสภาพแวดล้อมปกติในร่มและกลางแจ้งสามารถเป็นสารต้านอนุมูลอิสระไม่ง่ายที่จะจางหายไปรักษาความมันวาวของโลหะ
(3) เพิ่มความแข็งผิว: ความแข็งของฟิล์มที่วัดโดย Micro สูงถึง HV2250
ชนิดและความหนาของชั้นเคลือบ
(1) สายพันธุ์ของสารเคลือบผิว:
เทคโนโลยีการเคลือบ PVD สามารถเตรียมฟิล์มไนไตรด์ (TiN [ไทเทเนียมทองคำ), ZrN [ทองเซอร์โคเนียม], CrN, TiAlN] และฟิล์มคาร์ไบด์ (TiC, TiCN) และฟิล์มออกไซด์ (TiO และอื่น ๆ )
(2) ความหนาของชั้นฟิล์ม:
ความหนาของฟิล์มคือไมโครมิเตอร์และความหนาของฟิล์มเคลือบโดยทั่วไป 0.3 um ~ 0.5 mu