การพัฒนาอุตสาหกรรมไฮโดรเจน FCEV

ปัจจุบันผู้ผลิตมีความสำคัญมากกว่าที่เคยในการพัฒนาและค้นหาโซลูชันการเคลือบที่ดีที่สุดเพื่อให้ได้คุณภาพของผลิตภัณฑ์สูงสุดและต้นทุนการผลิตต่ำที่สุดในขณะที่รักษาสิ่งแวดล้อมของเราโดยเฉพาะอย่างยิ่งในอุตสาหกรรมรถยนต์ซึ่งมีต้นทุนการผลิตสูงนักวิทยาศาสตร์ต่างมองหาทางเลือกอื่นแทนน้ำมันเบนซินอย่างไม่ลดละซึ่งอุปทานมี จำกัด และก่อให้เกิดมลพิษต่อโลกของเราเทคโนโลยีการเคลือบสูญญากาศ PVD ที่ล้ำสมัยมอบโซลูชันที่มีประสิทธิภาพสูงสุดสำหรับปัญหาสำคัญเหล่านี้ทั้งหมด

โซลูชันของ Royal Technology สำหรับการเคลือบ Hydrogen FCEV Bipolar Plates

FC stack ประกอบด้วยเมมเบรนเคลือบตัวเร่งปฏิกิริยาและแผ่นสแตนเลสที่เรียกว่า "แผ่นสองขั้ว"เมมเบรนอิเล็กโทรไลต์เป็นเทคโนโลยีสำคัญการเคลือบพิเศษนี้ให้ความต้านทานการสัมผัสต่ำและป้องกันการกัดกร่อนตลอดอายุการใช้งานของเซลล์เชื้อเพลิง

ข้อดีทางเทคนิค

Royal Technology FCEV1213
________ อุปกรณ์เคลือบแผ่นสองขั้วสำหรับไฮโดรเจน FCEV

เทคนิคหลักคือการสร้างพลังงานไฟฟ้าด้วยโมดูลพลังงานเซลล์เชื้อเพลิงผ่านปฏิกิริยาเคมีไฟฟ้าระหว่างไฮโดรเจนเป็นเชื้อเพลิงและออกซิเจนนักวิทยาศาสตร์วิศวกรอาจารย์จากองค์กรการขนส่งและผู้ผลิตยานยนต์ทั่วโลกได้ทำการทดสอบหลายพันครั้งและได้พัฒนาการประมวลผลที่เหมาะสมในที่สุด

Royal Technology ทำงานอย่างใกล้ชิดกับลูกค้าในช่วง 5 ปีที่ผ่านมาและประสบความสำเร็จในการออกแบบและประดิษฐ์ระบบการสะสมสปัตเตอร์ที่มีประสิทธิภาพสูงเชิงพาณิชย์และได้มาตรฐานเราเชื่อมั่นว่าเทคโนโลยีนี้จะรบกวนอุตสาหกรรมยานยนต์

• เครื่อง FCEV1213 เป็นโรงงานต้นแบบชุดแรกสำหรับการผลิตในภาคอุตสาหกรรมที่เรามีให้ โครงสร้าง:
  วางแนวตั้งโครงสร้างแปดเหลี่ยมประตูเปิด 2 บาน (ด้านหน้าและด้านหลัง) เพื่อความสะดวก
  
  คุณสมบัติ:
• ระบบที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อมไม่มีของเสียอันตราย
• การออกแบบแบบแยกส่วนในตัว
• เชิงพาณิชย์และได้มาตรฐานสำหรับการผลิตจำนวนมากในอุตสาหกรรม
• แหล่งไอออนที่มีประสิทธิภาพสูงสำหรับการยึดเกาะที่แข็งแกร่งและการทำให้เป็นไอออนไนซ์สูง
• ใช้งานง่าย: หน้าจอสัมผัส + การควบคุม PLC การทำงานด้วยสัมผัสเดียว
• ด้วยซอฟต์แวร์ของ Royal Technology พารามิเตอร์ของกระบวนการสามารถตั้งโปรแกรมบันทึกและทำซ้ำได้
• การออกแบบพิเศษของระบบ Carousel เพื่อการสะสมที่สม่ำเสมอสูง
• ผลผลิตและเสถียรภาพสูงทำงานตลอด 24 ชั่วโมงทุกวัน
• ยืดหยุ่นตรงกับแผ่นขนาดต่างๆสำหรับการเคลือบด้านเดียวหรือสองด้าน
  
  อุปกรณ์แหล่งกำเนิดไอออนเชิงเส้นสำหรับ Plasma Etching และ Plasma Assisted Deposition ซึ่งมีประสิทธิภาพขั้นสูง
  1) การทำความสะอาดล่วงหน้ากระบวนการแกะสลักพลาสม่าที่ดำเนินการในสภาพแวดล้อมสุญญากาศสูงเพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนครั้งที่ 2 ของชิ้นงาน
  2) เพื่อเพิ่มการยึดเกาะระหว่างพื้นผิวและฟิล์มเคลือบ
  3) การสะสมความช่วยเหลือระหว่างการเคลือบปรับปรุงความสม่ำเสมอ
  
  

พารามิเตอร์ทางเทคนิค

รุ่น: FCEV1213

ความสูงของห้อง (มม.): 1300

เส้นผ่านศูนย์กลางของห้อง (มม.): φ1200

ประตูห้องสุญญากาศ: 2 ชุดเปิดด้านหน้าและด้านหลัง

หน้าแปลนการติดตั้งแคโทดสปัตเตอร์: 6
หน้าแปลนการติดตั้งแหล่งกำเนิดไอออน 1

ดาวเทียม: 24 xΦ120มม

กำลังไฟ: DC + อคติ

สูงสุดความสูงของการเคลือบที่มีประสิทธิภาพ (มม.): 850

Magnetic Suspension Molecular Pump: 2 x 2200L / S

รากปั๊ม: 1 x 1000m³ / h

ปั๊มใบพัดหมุน: 1 x 300m³ / h

ปั๊มโฮลดิ้ง: 1 x 60m³ / h

ขนาดพื้นผิว (มม.): 420 x 120/450 x 250/440 x 140/297 x 210 และอื่น ๆ

ความจุ: 40 ~ 80 ขึ้นอยู่กับ

พื้นที่ติดตั้ง (ยาว x กว้าง x สูง) มม.: 3000 * 4000 * 3200
 

มาพร้อมกับแคโทดสปัตเตอร์แมกนีตรอนที่สมดุลและไม่สมดุลของ Gencoขับเคลื่อนด้วยแหล่งจ่ายไฟ DC

Insite

สร้างเวลา: ตั้งแต่ปี 2559

สถานที่: เซี่ยงไฮ้ประเทศจีน

โปรดติดต่อเราสำหรับการใช้งานของคุณเรารู้สึกเป็นเกียรติที่ได้ให้บริการคุณด้วยบริการและคุณภาพที่ยอดเยี่ยมของเรา